Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9238389 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8
ID: 9238389
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
Coater / Developer system, 8" 1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement photorésistant conçu et acquis par TEL Corporation of TOKYO ELECTRON Ltd. Il s'agit d'un système de photolithographie automatisé basé sur l'optique utilisé dans la production de dispositifs semi-conducteurs. Cette unité est conçue pour permettre la fabrication précise et à haute résolution de masques de lithographie utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs modernes. TEL ACT 8 est composé de plusieurs composants, dont une source d'éclairage, une machine à lentilles, un outil d'alignement des réticules et un actif photorésistant exposé. La source d'éclairage utilisée par le modèle est un laser qui fonctionne à différentes longueurs d'onde, typiquement entre 350 et 400 nm. La lumière laser est dirigée à travers un équipement de lentille, qui est très précis, et peut fournir une puissance optique allant jusqu'à 200 mW/cm2. Le système d'alignement du réticule est utilisé pour aligner précisément le motif du réticule utilisé dans le processus de photolithographie avec la plaquette. L'unité photorésist exposée comporte un scanner dynamique qui est utilisé pour appliquer la photorésist sur la surface de la plaquette. Cela se fait avec un flux régulier de lumière délivré à la surface de la plaquette. La puissance totale fournie à la plaquette peut être ajustée avec précision en fonction de la résolution souhaitée. La photorésist est alors exposée à la lumière laser, et une réaction chimique est induite qui conduit à durcir ou adoucir la photorésist dans les zones exposées à la lumière. Ce motif gravé est ensuite utilisé pour modeler la plaquette dans un processus ultérieur. TOKYO ELECTRON ACT 8 est conçu pour être utilisé avec une machine d'alignement de précision connue sous le nom de Alaskan Series. Cette combinaison offre une précision allant jusqu'à 0,03 microns, et est capable de produire des caractéristiques aussi petites que 0,07 microns. L'outil dispose également d'un programme de simulateur interne qui peut être utilisé pour tester les conceptions de plaquettes avant le processus de fabrication réel. En conclusion, TEL ACT 8 est un actif de photolithographie automatisé et très précis pour la fabrication de dispositifs pour la production moderne de semi-conducteurs. Il utilise un modèle laser pour fournir une gamme de paramètres pour la résolution et la puissance. De plus, son équipement d'alignement de la série Alaskan et son programme de simulateur interne offrent aux utilisateurs la souplesse nécessaire pour créer des conceptions complexes avec une précision et une précision extrêmes.
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