Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9241944 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance conçu par TEL (TOKYO ELECTRON) pour la photolithographie dans les procédés de production de semi-conducteurs. Le système TEL ACT 8 permet de réaliser des circuits intégrés avec une précision et une miniaturisation améliorées. Cette unité est basée sur les technologies de base de la lithographie d'illumination et de la lithographie d'immersion. Les technologies d'éclairage améliorées de la machine TOKYO ELECTRON ACT 8 réduisent l'effet de diffraction et de distorsion, ce qui permet de modeler de façon optimale les IC complexes avec une précision améliorée. Ses capacités de lithographie d'immersion permettent des emplacements extrêmement petits. On y parvient en utilisant une lentille et une source de rayonnement à faible ouverture numérique (NA). Cela permet une impression précise et haute résolution sur les plaquettes semi-conductrices. L'outil est également livré avec une technologie antireflet avancée, réduisant les réflexions indésirables qui peuvent contaminer la plaquette et le produit final. TOKYO ELECTRON ACT 8 dispose également d'un modèle intégré d'inspection de substrat sombre (DS), qui inspecte tout défaut sur la plaquette avant ou pendant le processus de lithographie. Ceci donne à l'utilisateur des informations précises en temps réel sur l'état de la plaquette, améliorant grandement la fiabilité du produit final. L'équipement est également livré avec un système d'alignement de marque (MAS) pour le placement précis de la puce sur la plaquette. De plus, le logiciel de correction de motifs inclus dans l'unité assure que chaque puce est placée au bon endroit pendant la production. La caméra CCD de la machine ACT 8 permet de surveiller l'ensemble du processus d'impression lithographique. Cela aide à surveiller toute modification inattendue de la configuration pendant le processus, ce qui permet d'apporter des corrections avant que la plaquette ne soit endommagée. L'outil a également un atout de sécurité de détection de position (SPD) pour aider à empêcher le personnel non autorisé d'accéder au modèle. L'équipement de photorésistance TEL ACT 8 est l'un des systèmes de photolithographie les plus avancés actuellement disponibles pour la production d'IC. Il offre un excellent équilibre entre les technologies de lithographie d'éclairage et d'immersion, permettant de produire des IC très complexes avec la plus grande précision. L'inspection DS et le MAS aident également à s'assurer que le placement des puces et la qualité des plaquettes sont maintenus tout au long du processus de fabrication.