Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9251354 à vendre en France
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ID: 9251354
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
Coater / Developer systems, 8"
2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance de pointe développé par TEL LIMITED (TOKYO ELECTRON). C'est un système de calcul haute performance idéal pour créer des conceptions complexes avec une extrême précision. Cette unité est largement utilisée dans l'industrie microélectronique et semi-conductrice pour la fabrication de conceptions complexes de circuits intégrés. TEL ACT 8 utilise une machine optique de haute précision qui utilise une source lumineuse focalisée appelée laser. Ce laser est utilisé pour exposer un matériau photosensible appelé photorésist, qui peut être modifié par l'application de la lumière. La résine photosensible est d'abord appliquée en couche mince sur un substrat, tel qu'une plaquette de silicium ou une carte de circuit. Le laser est alors focalisé sur cette couche de photorésist et l'énergie de la source de lumière provoque une réaction chimique qui modifie l'état de la photorésist. Cela peut durcir ou adoucir la résine photosensible selon la longueur d'onde de la lumière laser utilisée, ce qui permet de la modeler sous une forme spécifique. Une fois le processus d'exposition terminé, des étapes de post-traitement telles que le développement et la gravure peuvent être utilisées pour éliminer la résine photosensible restante du substrat. Ceci laisse derrière lui un motif de contacts électriques utilisables dans le cadre d'un circuit intégré ou d'un autre dispositif électronique. TOKYO ELECTRON ACT 8 offre plusieurs avantages par rapport aux autres systèmes photorésistants en raison de sa grande précision et fiabilité. Parce que l'outil est entièrement automatisé, il assure des résultats reproductibles avec une intervention minimale de l'opérateur. En outre, l'actif offre une excellente compatibilité avec la gamme complète de matériaux photorésistants, permettant une flexibilité maximale en termes d'étapes de processus. Le modèle optique avancé utilisé dans ACT 8 garantit également que de très petites caractéristiques peuvent être modélisées avec précision sur le substrat pour créer des conceptions complexes. Cela en fait un choix idéal pour d'autres applications de miniaturisation d'appareils et de balisage avancé. En conclusion, l'équipement de photorésistance ACT 8 est un choix idéal pour les installations de microélectronique et de semi-conducteur. Elle offre une précision supérieure, une compatibilité avec une large gamme de matériaux photorésistants, et un fonctionnement automatisé pour des résultats efficaces et reproductibles.
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