Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9252167 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance qui produit des photomasques utilisés dans la production de dispositifs semi-conducteurs. Ce système a la capacité de créer des modèles très précis avec haute résolution et répétabilité. Les motifs de photomasques qu'il produit sont créés grâce à la méthode propriétaire de double exposition (DPE). Cette méthode consiste à exposer un seul film de résine photosensible à des expositions successives provenant de deux sources optiques différentes avec projection de miroir à balayage. Cette unité utilise également une configuration de masque définie par l'utilisateur avec des niveaux variables de complexité d'image et de géométrie de photomasque, permettant à l'utilisateur de personnaliser les motifs de photomasque. Le photomasque produit par TEL ACT 8 est réalisé par divers procédés. Tout d'abord, un substrat de verre est revêtu d'une résine de silicium amorphe, qui sert de motif photomasque. Ensuite, le film est exposé à la lumière, ce qui pose la couche de règle photorésist. La lumière fait polymériser la résine exposée et devient insoluble à une certaine solution chimique. Il en résulte la création d'un motif de ligne de gravure. Enfin, ce motif est transféré sur le substrat en verre. La résolution de cette machine photomasque est tout à fait impressionnante, avec une ligne/espace minimum de 0,08 microns et un pas constant jusqu'à 0,2 microns sur un réseau de 8 millions de pixels, rendant TOKYO ELECTRON ACT 8 idéal pour les applications les plus strictes de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Sa répétabilité inférieure à 0,001 micron garantit une excellente qualité de produit et des rendements excellents. De plus, la conception de TOKYO ELECTRON ACT 8 permet un temps d'exposition rapide, généralement de plusieurs heures à une journée. L'outil TEL ACT 8 dispose également d'un ensemble d'outils sophistiqués de contrôle des erreurs et de correction automatique. Ces outils permettent de corriger manuellement les conditions de non-tolérance avant de revoir le film gravé, en assurant la réalisation précise de motifs complexes. Ainsi, TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un actif photorésist fiable qui peut produire des motifs photomasques très avancés avec une répétabilité et une précision exceptionnelles.