Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9253993 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance conçu pour le processus de lithographie dans la fabrication de circuits intégrés et de semi-conducteurs. Il est utilisé pour créer des motifs sur des plaquettes pour générer des circuits électriques. Le système est basé sur l'oxydation thermique catalysée par l'acide (ACT) et est capable de fixer des plaquettes avec une large gamme de dimensions. TEL ACT 8 fournit une machine d'imagerie haute résolution, qui est capable de produire des fonctionnalités de sous-micron jusqu'à 0,2 micro-m. Il utilise la technologie d'agrandissement de source optique qui aide à améliorer la précision et la résolution du processus de balisage. TOKYO ELECTRON ACT 8 utilise également le traitement à couches multiples pour créer des motifs complexes. Plusieurs couches de résist sont appliquées successivement, ce qui permet de créer des couches de résist plus fines séparées verticalement. L'outil est conçu pour fournir une excellente facture de motifs, ce qui donne un rendement élevé de produits. L'aligneur de masque ADVACT 5 est conçu pour répondre aux exigences de haute vitesse et de débit de la lithographie à l'échelle de la production. Il peut fonctionner sur des substrats secs ou humides, permettant des processus de photoimagerie très précis. Il dispose également d'un outil automatisé de manutention des plaquettes et d'un mécanisme d'arrêt UV, qui aide à réduire les défauts dans l'imagerie de motifs. Le modèle comprend également une base de lampe multi-sources, qui supporte une gamme de sources d'éclairage. La base de la lampe est conçue pour offrir à la fois un contraste élevé et une haute résolution, garantissant une image de qualité constante. En résumé, TEL ACT 8 est un équipement de photorésistance avancé qui offre un procédé d'imagerie et de mise en forme de haute qualité pour la fabrication de semi-conducteurs et de circuits intégrés. Il dispose d'un traitement multicouche, de systèmes d'imagerie haute résolution, d'un traitement automatisé des plaquettes et d'une base de lampe multi-sources. Le système est conçu pour améliorer le débit et le rendement en imagerie de modèle.