Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9269550 à vendre en France
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ID: 9269550
Style Vintage: 2012
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PR Process
2012 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance conçu pour une formation de film optimale et des performances de fixation. Il s'agit d'un système photolithographique très avancé développé spécifiquement pour la R&D avancée et la fabrication de dispositifs semi-conducteurs à haut volume de production. L'unité dispose d'un procédé amélioré de dépôt de matériau de film, avec la capacité de produire des films minces et épais dans une grande variété de matériaux de film. Ces films peuvent être réalisés rapidement et efficacement avec l'outil d'imagerie avancé de la machine. L'atout est très précis, permettant de modeler avec précision des structures telles que les circuits VLSI et les contacts à grande vitesse. TEL ACT 8 dispose d'un modèle d'imagerie de type pas à pas de résolution de 500 microns. Il comprend une mise au point automatique ultra haute résolution et des capacités d'alignement fine, et peut gérer des photorésists positifs et négatifs. L'équipement avancé de photolithographie comprend un puissant modulateur de lumière spatiale (SLM) et un dispositif d'alignement laser, ce qui le rend adapté à des motifs compliqués. L'équipement offre également un processus de génération de motifs à haute vitesse avec une tête d'impression rapide et précise. La taille du motif, la forme et le rapport d'aspect peuvent également être facilement ajustés avec le logiciel propriétaire. Cela rend le système utile pour le traitement humide et sec d'une variété de films, y compris les matériaux thermiques et électrochimiques. L'unité est également équipée de systèmes de vide et de température pour le dépôt et le traitement contrôlés. Cette combinaison de technologies fournit le plus haut niveau de précision pour les masques de lithographie fine et la fixation précise. TOKYO ELECTRON ACT 8 est une machine photolithographique puissante et fiable conçue pour répondre aux besoins des installations de production et de recherche de haute performance. Sa polyvalence et sa précision en font l'outil parfait pour un travail de lithographie précis et des résultats fiables pour toutes vos exigences de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
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