Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9272113 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance utilisé dans le processus de réalisation de circuits intégrés et autres dispositifs semi-conducteurs. Il s'agit d'un système avancé utilisé dans une forme de lithographie, qui consiste à exposer à la lumière ultraviolette une résistance prédéfinie ou un matériau photosensible, puis à la développer pour créer un motif désiré. TEL ACT 8 est capable de réaliser un motif sur un substrat avec une précision exceptionnelle et une excellente cohérence de surface. Au cœur de la machine TOKYO ELECTRON ACT 8 se trouve son alignement avancé de photomasque, qui aligne précisément le photomasque avec le substrat. Le photomasque contient un motif de sites d'exposition qui correspondent aux motifs souhaités sur le substrat. Les sites d'exposition peuvent être de toute taille et forme, comme des carrés, des cercles ou des hexagones. L'alignement photomasque utilise des capteurs de haute précision pour assurer un alignement parfait. Ceci assure la précision des sites d'exposition afin que le motif créé sur le substrat soit précis. La caractéristique photorésist d'ACT 8 est une composante critique de l'outil, car elle permet de créer le motif sur le substrat. Le matériau Photoresist est composé de deux couches, la couche inférieure étant constituée d'un matériau photosensible, et la couche supérieure étant constituée d'un film de protection qui aide à protéger le matériau photosensible de la lumière d'exposition. Bien contrôlée, la couche supérieure permet une exposition suffisante pour que le matériau photosensible réagisse et crée un motif sur le substrat. L'actif comprend également la fonction développeurs, qui aide à créer le motif sur le substrat. Après l'application de la lumière d'exposition sur le substrat, les développeurs prennent le relais et aident à former le motif désiré. Les développeurs sont un modèle chimique avancé qui comprend divers etchants et solvants. Ceux-ci aident à dissoudre le matériau photosensible dans des zones localisées, formant le motif sur le substrat. L'équipement TOKYO ELECTRON ACT 8 comprend également des systèmes d'éclairage réglables, qui sont conçus pour assurer une exposition uniforme du substrat. Ceci permet de s'assurer que le motif désiré est créé sur toutes les parties du substrat, sans incohérences. Les systèmes d'éclairage peuvent également être utilisés pour modifier les niveaux d'exposition pour s'adapter à la surface du substrat, en assurant des motifs précis et précis. Dans l'ensemble, ACT 8 est un système de photorésistance avancé capable de créer des motifs précis avec une précision exceptionnelle et une excellente cohérence de surface. Ses systèmes avancés d'alignement et d'éclairage des photomasques aident à assurer une exposition uniforme du substrat, tandis que ses développeurs aident à créer le motif souhaité. Ensemble, ces caractéristiques contribuent à en faire une unité idéale pour la création de circuits intégrés sophistiqués et d'autres dispositifs semi-conducteurs.