Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9275379 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est l'un des derniers systèmes photorésistants disponibles sur le marché. Les photorésistes sont un type de matériau utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour graver ou modeler un photomasque pour créer des composants électroniques microscopiques. Les photomasques sont créés en transférant une image d'un photomasque à une couche de photorésist, ce qui crée un motif de microcircuit. L'équipement TEL ACT 8 est conçu pour la flexibilité et la vitesse. Il dispose d'un design de buse avec un mécanisme à trois étages pour le traitement à grande vitesse de la résine photosensible. La buse utilise un flux de gaz, ce qui permet de répartir uniformément la photorésist sur le substrat et de transférer précisément le motif du photomasque à la couche de photorésist. De plus, la buse TOKYO ELECTRON ACT 8 permet également un contrôle précis de la quantité de photorésist appliquée. Le système TEL ACT 8 comprend également une unité de contrôle haute vitesse et précision. Cette machine comprend un certain nombre de capteurs qui permettent au photomasker de surveiller l'épaisseur de la résine photosensible, qui peut être ajustée pour répondre aux besoins du client. De plus, l'outil dispose également d'un actif de détection de défauts à haute sensibilité, qui permet d'identifier rapidement les anomalies liées aux photorésistances. Le modèle TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 dispose également d'un équipement avancé d'édition de motifs, ce qui contribue à réduire le temps dans la disposition des photomasques. Ce système permet de modifier rapidement et facilement la disposition des photomasques afin de créer un motif de haute qualité. En outre, l'unité utilise un moteur de motifs à base de vecteurs afin que des motifs complexes puissent être créés rapidement et avec précision. La machine ACT 8 est un outil photorésist de pointe qui aide à réduire le temps et l'effort requis dans le processus de photomasking. Son atout de contrôle haute vitesse et précision, son modèle avancé d'édition de motifs et son moteur de modèles vectoriels permettent aux utilisateurs de produire facilement des composants photomasques de haute qualité et de précision.