Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9282700 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement aphotoresiste conçu pour contrôler de façon critique le processus de développement dans les matériaux semi-conducteurs. C'est un système de lithographie capable de fabriquer des circuits intégrés et d'autres matériaux complexes avec une densité élevée, une grande précision et un rendement élevé. L'étage d'exposition de l'unité de photorésistance TEL ACT 8 est équipé d'une lampe cathodique froide (CCL) capable de loger une seule plaquette à la fois. L'énergie émise par la lampe est mesurée dans la Wafer Sensing Machine pour assurer une exposition précise de la plaquette. La combinaison de CCL et de Wafer Sensing Tool promet une exposition précise en veillant à ce que toutes les caractéristiques du motif soient alignées avec précision sur le substrat. L'outil de photo-alignement est également équipé d'un modèle autofocus, permettant un alignement rapide et précis avec les réticules utilisés dans la projection de la plaquette. TOKYO ELECTRON ACT 8 assure également un contrôle précis de la température des plaquettes pendant le processus de développement. Cela assure la cohérence des résultats entre les lots et les plaquettes, assurant un rendement plus élevé. Les développeurs utilisés sont maintenus dans un environnement étroitement contrôlé à l'aide de plusieurs zones contrôlées par la température, ce qui assure encore la durée de vie des produits chimiques et une meilleure qualité de la résistance développée. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est équipé d'une station de développement de gravures, la D-Station, qui travaille en tandem avec les développeurs mentionnés ci-dessus pour teindre avec précision la plaquette semi-conductrice développée. La D-Station contient plusieurs éléments, tels qu'une porteuse, un développeur et un cylindre. Ceci permet un développement précis du motif dans la résine actuellement déposée sur le semi-conducteur. Enfin, ACT 8 est également équipé d'une capsule de pulvérisation pour les phases de cuisson post-exposition du processus de développement. Cela facilite l'extension de la fenêtre du processus en contrôlant le processus de cuisson post-exposition. Globalement, ACT 8 est un équipement photorésistant de pointe conçu pour une exposition et un développement précis dans la fabrication de circuits intégrés et d'autres matériaux complexes. Son système d'exposition très précis, les réservoirs de développement à température contrôlée, la station de développement de gravure et la capsule de pulvérisation travaillent ensemble pour assurer des rendements élevés et un haut niveau de précision dans le processus de développement.