Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9283381 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance qui est utilisé pour créer des semi-conducteurs de haute performance. Ce système utilise un processus de lithographie optique pilotée par des données, qui est une forme de lithographie en écriture directe. En photolithographie, la lumière est utilisée pour transférer des cellules structurées sur un substrat, typiquement une plaquette de silicium. Cette lumière est typiquement un rayonnement ultraviolet, ou UV. Cette méthode de lithographie permet de reproduire avec précision le motif et de l'ajuster au substrat. Ceci devient le point de départ de la création de transistors, de condensateurs et d'autres composants d'un dispositif semi-conducteur. Avec TEL ACT 8, une machine de lithographie avancée est utilisée qui dispose d'un processus puissant en 3 étapes. Tout d'abord, la machine utilise un masque optique binaire pour imposer un motif spécifique sur un substrat en silicium blanc. Ensuite, ce motif est exposé à la lumière UV, ce qui permet de retirer le masque. Le produit fini est une réplication exacte du motif sur le masque. L'unité alsofeatures un étage avancé de plaquettes et une machine de balayage de plaquettes. Ces deux composants travaillent ensemble pour assurer la précision tout au long du processus de lithographie. L'outil de balayage de la plaquette est capable de déplacer les étages de positionnement et d'alignement, afin de faciliter le balisage le plus précis possible. Cet actif de numérisation permet également de réduire le temps de traitement de chaque plaquette. La troisième étape du procédé consiste à revêtir la plaquette d'un matériau photorésistant. Ce matériau est sensible à la lumière UV, donc lorsqu'il est exposé, seules certaines régions de la plaquette resteront exposées. Ce procédé peut être utilisé pour créer des motifs avec plus de détails que le masque optique binaire précédent, tels que des lignes fines et de petites caractéristiques. TOKYO ELECTRON ACT 8 offre aux utilisateurs un moyen de créer des conceptions complexes de semi-conducteurs rapidement, avec précision et précision. Ce modèle est parfait pour une variété d'industries et d'applications, y compris l'automobile, les télécommunications et l'électronique grand public. Sa précision et son efficacité permettent la production de pièces semi-conductrices très fiables et complexes.