Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9284114 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance conçu pour des applications avancées de photolithographie. C'est un équipement avancé d'alignement de masque et de photolithographie de haute précision qui utilise une combinaison d'une superposition de masque d'alignement et une technologie de photorésistance avancée. Le système comprend deux technologies de pointe ; le Mask Alignment Overlay (MAO) et le Photoresist Chemistry and Optimization (PCE). Le Mask Alignment Overlay (MAO) est une technologie clé utilisée en combinaison avec des systèmes d'alignement de masques à faisceau d'électrons (EB) pour aligner avec précision des couches de matériau photorésist sur un substrat de plaquettes. Le MAO aligne chaque couche avec un processus rapide et facile, permettant une précision précise dans même les composants les plus tolérés. La couche de photorésist peut être réglée finement à travers l'unité MAO, optimisant la dosimétrie du matériau de photorésist et réduisant toute surexposition possible pendant le processus de lithographie. La machine Photoresist Chemistry and Optimization (PCE) assure un contrôle précis de la chimie d'un processus de lithographie donné, permettant d'entrer dans l'outil des recettes préprogrammées et des paramètres de lithographie personnalisés. Ceci permet une optimisation aisée de la couche de photorésist et permet d'ajouter des doses adaptées d'un composé de photorésist spécifique avant l'alignement du masque EB. TEL ACT 8 offre un large éventail d'avantages aux fabricants de semi-conducteurs et aux chercheurs. Il permet d'optimiser les couches de résine photosensible à l'intérieur d'une plaquette d'alignement à masque unique pour réduire le temps d'exposition et améliorer la précision. L'actif PCE permet un contrôle facile et précis de la chimie photorésiste pour des doses adaptées d'un composé photorésiste spécifique. Cela produit une répétabilité et un débit supérieurs, ainsi que des coûts réduits dans les cycles de fabrication. Afin de tirer pleinement parti de TOKYO ELECTRON ACT 8, il est nécessaire de comprendre ses avantages et ses capacités. Le modèle offre une précision et une précision accrues dans l'alignement des masques EB, et sa technologie sophistiquée MAO permet une dosimétrie optimisée du matériau photorésist. Ses recettes optimisées et ses équipements PCE permettent un contrôle facile de la chimie photorésistante, ce qui permet d'améliorer la reproductibilité et le débit, et finalement de réduire les coûts à long terme.