Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9285381 à vendre en France

ID: 9285381
Style Vintage: 2002
(4) Coater / (4) Developer system Open cassette 2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système est conçu pour être utilisé dans le dépôt et la gravure à sec de films de substrat dans la fabrication de circuits intégrés. TEL ACT 8 utilise une machine de photorésistance sans masque avancée qui utilise un masque laser ouvert pour permettre l'imagerie à haute résolution de motifs sur un substrat photosensible. Le masque laser ajouré est positionné à une distance fixe au-dessus du substrat et est utilisé à la fois dans les fonctions de balayage et d'exposition. L'outil est intégré à une buse en résine qui fournit le revêtement de pulvérisation du substrat requis et permet une application uniforme des matériaux en résine. L'actif a une haute résolution pour l'imagerie. Le modèle dispose d'un moteur laser à modulation haute fréquence qui génère des images haute résolution et haute précision sur le substrat avec une grande uniformité. Cette caractéristique assure la fidélité accrue du motif, permettant un rendement de processus significativement plus élevé. De plus, l'équipement de photorésistance TOKYO ELECTRON ACT 8 possède une technologie de couche optiquement active qui permet l'interconnexion entre les films et les couches isolantes pour la fabrication d'interconnexions à plusieurs niveaux. Cette technologie de couche permet également d'améliorer le rendement de contact et l'adhérence. Le système dispose également d'une automatisation intégrée qui permet de réduire le temps et les ressources nécessaires à la fabrication des circuits intégrés. Cette automatisation est conçue pour réduire le coût du produit final. TOKYO ELECTRON ACT 8 photorésist unit est adapté pour les applications de cuisson et de gravure à haute température, ainsi que d'autres conditions de processus difficiles. Il est également capable d'accueillir les dernières technologies de plaquettes, telles que les films Cu-AlN, et permet la fabrication d'appareils complexes. Dans l'ensemble, la photorésist ACT 8 est un outil avancé et performant qui est idéal pour la fabrication et la production de dispositifs semi-conducteurs. L'actif dispose d'une automatisation intégrée et d'une résolution améliorée de l'imagerie, ce qui contribue à réduire les coûts de production des circuits intégrés. Il est également capable de gérer des conditions de processus difficiles et est capable de s'adapter aux dernières technologies de plaquettes, faisant de TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 modèle photorésist une solution idéale pour la fabrication de dispositifs complexes.
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