Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9288585 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance conçu pour la photolithographie de précision. C'est un système personnalisable qui permet aux utilisateurs d'avoir une visibilité et un contrôle optimaux sur leur processus de production. L'unité dispose de sa propre solution photorésist, qui est une partie essentielle du processus de photolithographie. Cette solution aide l'utilisateur à appliquer la résine photosensible uniformément sur le matériau cible afin de créer un résultat uniforme et précis. Au cœur de la machine se trouve un scanner laser propriétaire qui offre une précision et une vitesse maximales. Il a un étage réglable, avec la capacité de l'aligner parfaitement sur n'importe quelle taille de substrat. Le faisceau laser est focalisé sur une largeur extrêmement étroite de sorte que des motifs fins peuvent être inscrits avec précision sur le matériau cible. L'outil dispose également d'une fonction brevetée de réglage automatique de taille assurant que l'exposition est exactement adaptée à la forme de la cible. L'actif est encore amélioré par un modèle d'exposition multiple intégré. Cela permet aux utilisateurs d'exposer le même motif plusieurs fois avec des paramètres d'exposition différents. Cet équipement élimine le besoin de réglage manuel du modèle, assurant des résultats cohérents à chaque fois. Le système comprend également un verrou en matériau diélectrique breveté destiné à fixer la résine photosensible sur le substrat. Cette caractéristique assure que la résine photosensible reste solidement attachée au substrat pendant le processus d'exposition. De plus, l'unité dispose d'une bascule numérique programmable qui assure une répartition uniforme de la résine photosensible sur le substrat. L'outil dispose également d'un ensemble complet de capteurs de température et d'humidité. Cela permet aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster facilement la température et l'humidité pour atteindre les conditions précises qui permettront d'obtenir la résolution et la clarté souhaitées des motifs. Enfin, l'actif comprend également son propre modèle autonome de développement de la résistance. Cet équipement élimine la résine photosensible du substrat après exposition, conduisant à la formation du motif. Le système est équipé de capteurs pour s'assurer que la pression précise est appliquée sur le substrat pour obtenir les résultats optimaux d'élimination de la résistance. Globalement, TEL ACT 8 est une unité de photorésistance avancée conçue pour la photolithographie de précision. Sa combinaison d'une solution photorésist exclusive, d'un scanner laser, d'une machine à exposition multiple et d'un outil de développement de résistances lui permet d'obtenir des résultats de la plus haute qualité dans les plus brefs délais.