Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9290883 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de haute technologie de photorésistance utilisé pour la photolithographie avancée avec une résolution ofaccommodating sub-25 nanomètres. Le système combine des capacités de haute précision de la technologie classique de lithographie avec une suite de technologies puissantes d'automatisation et de robotique. TEL ACT 8 dispose d'une unité de projection optique avancée avec une lentille point-à-point (P2P) 4X pour obtenir une précision de traitement de première qualité pour les appareils de moins de 25 nanomètres. La capacité de lithographie sans masque de la machine est parmi les plus avancées de l'industrie. TOKYO ELECTRON ACT 8 comprend TEL Laser Pattern Generator (GPL), qui utilise un alignement super-résolution et des impulsions laser pour exposer sélectivement la photorésist cible. Le GPL est conçu pour améliorer la résolution et la précision de recouvrement tout en réduisant la variance de largeur de ligne. L'outil comprend également une couture multi-champs, une fonction composite innovante qui permet la couture sous-résolution (CFS) et la couture die-to-die (D2D) pour les grandes plaquettes. Le scanner TOKYO ELECTRON ACT 8 est idéal pour les pièces à micro-échelle critiques avec des niveaux de précision extrêmement élevés, grâce à la combinaison de photorésist avec des marches et masques TOKYO ELECTRON de confiance et éprouvés. Il dispose d'un atout d'imagerie haute résolution avec une taille de pixel de 1,0 microns, ce qui le rend admissible à traiter des fonctionnalités extrêmement petites. Le stepper utilise un robot wafer-front-end (WFE) pour assurer un transfert de wafer plus rapide et fiable tout en minimisant la contamination. TEL ACT 8 utilise une variété de technologies d'automatisation pour optimiser la vitesse des modèles et le débit des plaquettes. L'équipement avancé de tête robotique de niveau wafer (FWR) permet une manipulation rapide des plaquettes, tandis que l'exposition multi-champs en temps réel Autostep fournit des champs précis sur la plaquette simultanément. Les capacités de synthèse de champ en temps réel (RTFS) garantissent la précision et d'excellents résultats de superposition. De plus, le système dispose d'un temps de configuration inférieur à 5 minutes et peut être réinitialisé en quelques secondes. Dans l'ensemble, ACT 8 de TEL/TOKYO ELECTRON est un puissant outil de photolithographie de pointe qui offre une grande combinaison de fonctionnalités et de capacités pour le traitement des dispositifs sub-25 nanomètres. Il combine les dernières technologies d'imagerie et d'automatisation pour offrir une solution haute performance pour le traitement des photomasques et des plaquettes. Sa mise en place rapide et ses exigences minimales en matière de maintenance en font un choix idéal pour les environnements de production.