Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9294152 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8
ID: 9294152
Spin On Dielectric (SOD) System.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 Photoresist Equipment est une technologie d'imagerie révolutionnaire qui offre des performances supérieures en termes de précision et de vitesse d'imagerie. Il est conçu pour faciliter le dépôt et le traitement des polymères et des fluoromatériaux afin de créer une gamme de dispositifs avancés et de haute technologie. TEL ACT 8 est une plate-forme de lithographie qui utilise une technologie d'imagerie optique de pointe qui fournit une résolution précise pour les applications microélectroniques. L'unité utilise une technique de balayage par faisceau haute énergie (HEBS) pour permettre un balayage rapide des matériaux photorésistants. Cette technique de balayage est capable de produire des motifs de résolution de sous-µm. De plus, TOKYO ELECTRON ACT 8 fournit une résolution d'imagerie de haute qualité dans une grande variété de matériaux de lithographie allant des polymères fluorés les plus exigeants aux produits chimiques traditionnels. En plus de ses impressionnantes capacités d'imagerie, ACT 8 comprend une machine compacte d'exposition au masque cylindrique pour des applications de balisage flexibles. Cet outil d'exposition au masque comprend un moteur six axes de haute précision pour un placement précis du masque et un filtre horizontal et vertical à variation linéaire pour une intensité lumineuse optimale. TEL ACT 8 offre également une interface utilisateur pratique pour un contrôle simplifié des processus. Son logiciel embarqué permet à l'opérateur de contrôler pleinement tous les aspects du processus de photoplottage, ce qui permet un dépannage rapide et efficace. L'opérateur peut facilement surveiller tous les paramètres du processus en temps réel, y compris la lumière d'exposition, le taux de scan et l'intensité lumineuse. ACT 8 Photoresist Asset est une technologie d'imagerie innovante qui permet une production rapide et efficace de motifs lithographiques complexes avec des détails de haute précision. Son optique d'imagerie avancée et son interface utilisateur simplifiée rendent la photoplottage plus facile que jamais, tandis que ses capacités d'imagerie haute résolution garantissent des performances supérieures dans les applications de lithographie difficiles.
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