Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9296903 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance de pointe utilisé dans la production de semi-conducteurs. Il combine deux types de technologies : balayage absolu précis du faisceau et simple méthacrylate de méthyle (MMA) en tant que photorésist. La technologie avancée de balayage de faisceau permet au système d'écrire des motifs avec une précision nanométrique. L'utilisation de MMA permet de réaliser des caractéristiques à l'échelle d'un nanomètre. De plus, cette unité traite efficacement les matériaux du substrat jusqu'à 6 pouces de taille. La technologie centrale qui rend TEL ACT 8 si puissant est sa machine d'écriture de faisceau d'électrons. Ceci utilise un faisceau d'électrons qui est capable de transmettre précisément des motifs sur le substrat, ce qui permet des motifs aussi petits que 2 nanomètres de résolution. Cette technologie est également utilisée pour façonner la poutre à la taille de motif désirée, assurant une fixation précise. Le photorésist MMA unique fournit un revêtement étanche à l'air, empêchant la contamination dans l'environnement de production. La micropuce est ainsi complètement exempte de matière extérieure, ce qui peut compromettre la précision du motif réalisé. De plus, le MMA se développe rapidement et sèche à température ambiante, ce qui permet un retournement rapide. TOKYO ELECTRON ACT 8 utilise également une étape assistée par la chaleur pour le traitement des gâteaux post-exposition. Cela permet de traiter efficacement tous les matériaux de substrat difficiles, avec des résolutions aussi élevées que 30nm facilement réalisables. Une précision supplémentaire est assurée par l'utilisation de techniques de traitement du signal, telles que le doublement et le triplement des impulsions. Pour faire fonctionner ACT 8, l'utilisateur doit utiliser un logiciel spécialisé. Ce logiciel est capable de faire tourner, d'aligner et d'affiner le motif sur la résine photosensible. Il supporte également les fonctions de stockage et d'analyse des données, permettant la détection précise des détails minutieux. En fin de compte, cela garantit que le motif désiré peut être imprimé avec la précision correcte. En conclusion, TEL ACT 8 est un outil de photorésistance puissant, conçu pour la mise en oeuvre précise de dispositifs semi-conducteurs nano-échelle. Sa combinaison d'une technologie avancée de balayage par faisceau et d'une seule résistance photométrique MMA permet d'obtenir une précision de niveau nanométrique pour tous les matériaux du substrat. En outre, l'actif est contrôlé par un logiciel sophistiqué pour une plus grande précision, tandis que l'étage à assistance thermique ajoute un niveau de précision supplémentaire.