Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9300128 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement photorésistant de nouvelle génération développé par TEL LIMITED (TOKYO ELECTRON). La photorésist est une substance chimique utilisée dans la production de composants électroniques et de polymères photosensibles qui peuvent être utilisés pour créer des motifs sur un substrat. Les systèmes photorésistants sont utilisés dans divers procédés de fabrication, de la photolithographie à la gravure. TEL ACT 8 possède une variété de caractéristiques qui le distinguent des autres systèmes photorésistants. C'est un système de résistance haute performance, qui permet l'utilisation d'images et de données vidéo de la microscopie numérique d'imagerie de fluorescence (FDIM) avec une plaquette de 8 pouces. Cela signifie qu'il peut former avec précision des motifs avec une répétabilité et une uniformité élevées. Il dispose d'une unité de nettoyage de pointe qui permet d'éliminer efficacement les ions métalliques et les contaminants organiques. Cela réduit les défauts de nettoyage et les débris causés par un mauvais rinçage. Les caractéristiques améliorées de dépôt du masque facilitent le contrôle des largeurs de ligne ainsi que des épaisseurs de film. Cela permet de s'assurer que le processus de transfert de motifs du photomasque vers le substrat est précis. La machine présente également des caractéristiques de traitement améliorées par rapport à d'autres photorésistes, permettant des vitesses de traitement plus rapides. De plus, la durée maximale du processus a été prolongée, ce qui diminue le risque de contamination des particules et de dommages aux substrats. Les capacités de contrôle avancées de TOKYO ELECTRON ACT 8 aident à assurer des désalignements de configuration plus précis et des largeurs de ligne. Il est également capable d'incorporer séquentiellement la gravure sèche et les procédés chimiques, en simplifiant les processus de production et en les rendant plus faciles à contrôler et à optimiser. Dans l'ensemble, TEL ACT 8 est un outil de photorésistance avancé qui offre des avantages tels que des vitesses de traitement plus rapides, des capacités de nettoyage améliorées, des caractéristiques de dépôt de masque améliorées et des temps de traitement prolongés. Cela permet d'améliorer la précision, l'uniformité et la répétabilité de la réduction des défauts et d'améliorer le traitement des substrats. C'est un atout avancé qui offre des avantages substantiels pour la production et la fabrication de composants électroniques.