Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9312079 à vendre en France
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ID: 9312079
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2007
(4) Coater / (4) Developer system, 8"
(2) Chemical boxes
(2) SMC Thermo controllers
TEAM KOREA Temperature and humidity controller
AC Power box
Left to right
Wafer and carrier type: Notch
(25) Slots
(4) Uni-cassette loaders
Carrier station:
Type: Normal uni-cassette
(4) Cassette stages
Pick-up cassette
Uni-cassette system
Coater unit (2-1, 2-2, 2-3, 2-4 Module):
(3) Dispense nozzles with temperature controlled line
RDS Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse system: 3 Liters (2) buffer tank systems
PR Suck-back valve type: AMC Suck-back valve
Programmable side rinse
Direct drain
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Module):
Nozzle for each unit
2-Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse on each unit
Developer system: 3 Liters (2) buffer tank systems
Developer temperature control system
Direct drain
(2) Adhesion units:
Sealing closed chamber with built-in hot plate
HMDS Tank with float sensor
Interface type: NIKON
High temperature hot plate
(16) Low temp hot plates
(9) Chill Plates (CPL)
(4) Chilling Hot Plate (CHP) process station
(3) Transition Stage (TRS) modules
Transition Chill Plate (TCP) module
Wafer Edge Exposure (WEE) module
(2) Temperature control units
Missing parts:
Main controller
(4) Coater cups (2-1, 2-2, 2-3, 2-4)
(3) Developer cups (3-1, 3-2, 3-3)
Main display panel
CRA X-Axis motor
CSB Add on board
(9) Coater PR pumps (2-1.2-2.2-3)
IRA Y-Axis motor driver
IRA Tweezers
LHP Module cover
Power: AC 208 V, 3 Phase
2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement d'exposition avancé conçu pour des applications photorésistantes. Il s'agit d'un système piloté par laser qui utilise une haute résolution et un contrôle précis des temps d'exposition pour réduire les défauts du masque et augmenter la cohérence de l'image photorésist exposée. Cette unité de photorésistance est constituée d'une source laser, d'une unité de modulateur, d'une unité de balayage, d'une unité d'analyse et d'un détecteur d'image de photorésist. La source laser génère les photons utilisés pour exposer la photorésist. Cela peut être de type He-Cd ou argon-ion. Le modulateur assure que chaque impulsion laser a exactement la même durée, permettant un contrôle précis de la densité de puissance et assurant une exposition uniforme de 10ns. La machine à balayer utilise une conception mécanique très précise et rigide pour exposer avec précision la résine photosensible. Il fonctionne en scannant un étage motorisé XY à 1,2 mètre par seconde. L'unité d'analyse utilise un capteur CCD pour confirmer l'exposition exacte de l'image photorésist. Le détecteur d'image photorésist permet de mesurer des motifs de résistance extrêmement précis sans déviation. Il combine un étage de mesure, une unité de commande d'entrée de données et une unité d'affichage de sortie de signal. Il peut détecter des erreurs de position aussi petites que 0,2 micromètre. TEL ACT 8 est adapté à une variété d'industries telles que la fabrication de semi-conducteurs. Il permet aux fabricants de puces de produire rapidement et avec précision des dispositifs avec une résolution améliorée et élimine le retournement du masque. Cet outil avancé est capable d'obtenir une précision d'impression de 0,1 micromètre. Il offre également une excellente utilisation des ressources avec sa capacité à traiter de grands produits à grande vitesse.
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