Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9312079 à vendre en France

ID: 9312079
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2007
(4) Coater / (4) Developer system, 8" (2) Chemical boxes (2) SMC Thermo controllers TEAM KOREA Temperature and humidity controller AC Power box Left to right Wafer and carrier type: Notch (25) Slots (4) Uni-cassette loaders Carrier station: Type: Normal uni-cassette (4) Cassette stages Pick-up cassette Uni-cassette system Coater unit (2-1, 2-2, 2-3, 2-4 Module): (3) Dispense nozzles with temperature controlled line RDS Pump Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath Rinse system: 3 Liters (2) buffer tank systems PR Suck-back valve type: AMC Suck-back valve Programmable side rinse Direct drain Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Module): Nozzle for each unit 2-Stream nozzles for DI rinse 2-Points for back side rinse on each unit Developer system: 3 Liters (2) buffer tank systems Developer temperature control system Direct drain (2) Adhesion units: Sealing closed chamber with built-in hot plate HMDS Tank with float sensor Interface type: NIKON High temperature hot plate (16) Low temp hot plates (9) Chill Plates (CPL) (4) Chilling Hot Plate (CHP) process station (3) Transition Stage (TRS) modules Transition Chill Plate (TCP) module Wafer Edge Exposure (WEE) module (2) Temperature control units Missing parts: Main controller (4) Coater cups (2-1, 2-2, 2-3, 2-4) (3) Developer cups (3-1, 3-2, 3-3) Main display panel CRA X-Axis motor CSB Add on board (9) Coater PR pumps (2-1.2-2.2-3) IRA Y-Axis motor driver IRA Tweezers LHP Module cover Power: AC 208 V, 3 Phase 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement d'exposition avancé conçu pour des applications photorésistantes. Il s'agit d'un système piloté par laser qui utilise une haute résolution et un contrôle précis des temps d'exposition pour réduire les défauts du masque et augmenter la cohérence de l'image photorésist exposée. Cette unité de photorésistance est constituée d'une source laser, d'une unité de modulateur, d'une unité de balayage, d'une unité d'analyse et d'un détecteur d'image de photorésist. La source laser génère les photons utilisés pour exposer la photorésist. Cela peut être de type He-Cd ou argon-ion. Le modulateur assure que chaque impulsion laser a exactement la même durée, permettant un contrôle précis de la densité de puissance et assurant une exposition uniforme de 10ns. La machine à balayer utilise une conception mécanique très précise et rigide pour exposer avec précision la résine photosensible. Il fonctionne en scannant un étage motorisé XY à 1,2 mètre par seconde. L'unité d'analyse utilise un capteur CCD pour confirmer l'exposition exacte de l'image photorésist. Le détecteur d'image photorésist permet de mesurer des motifs de résistance extrêmement précis sans déviation. Il combine un étage de mesure, une unité de commande d'entrée de données et une unité d'affichage de sortie de signal. Il peut détecter des erreurs de position aussi petites que 0,2 micromètre. TEL ACT 8 est adapté à une variété d'industries telles que la fabrication de semi-conducteurs. Il permet aux fabricants de puces de produire rapidement et avec précision des dispositifs avec une résolution améliorée et élimine le retournement du masque. Cet outil avancé est capable d'obtenir une précision d'impression de 0,1 micromètre. Il offre également une excellente utilisation des ressources avec sa capacité à traiter de grands produits à grande vitesse.
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