Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9312222 à vendre en France

ID: 9312222
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
Coater / Developer system, 8" Main frame with system controller Carrier station: Type: Normal uni-cassette 4-Cassette stages Pick-up cassette Coater unit: (3) Dispense nozzles With temperature controlled line RRC Pump Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath Rinse system: 3 Liters (2) Buffer tank systems P.R Such-back valve type: Suck-back valve Direct drain TARC Coater unit: (2) Dispense nozzles With temperature controlled line RRC Pump Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath Rinse system: 3 Liters (2) buffer tank systems P.R Such-back valve type: Suck-back valve Direct drain Developer unit: SH Nozzle (2) SH Nozzles for DI Rinse 2-Points for back side rinse Developer system: 3 Liters (2) buffer tank systems Developer temperature control system Direct drain (3) Adhesion units: Sealing closed chamber (Built-in hot plate) HMDS Tank with float sensor system Interface (15) Low temp hot plates (14) Chill plates (CPL) (3) TRS Module TCP Module Wafer Edge Exposure (WEE) Module Wafer type: Notch, DUV Type (2) Chemical cabinets: Chemical cabinet 1: Solvent and developer Chemical cabinet 2: HMDS and PR (2) Temperature Control Units (TCU) AC Power box Missing parts: 2-1 COT Spin I/O Board 2-4 COT EBR Nozzle tip 2-4 COT EBR Nozzle valve 2-1 Nozzle changer motor 3-2 Shutter cylinder (2) PRB YASUKAWA Spin motor drivers 2-0 PRA Z-Driver 3-0 PRA Z-Driver Temperature and humidity controller (For 4 chu) Hard Disk Drive (HDD) 2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement photorésistant développé par TEL en partenariat avec Canon Electronics. C'est une technologie de nouvelle génération qui combine les capacités de haute performance d'un système de lithographie laser ultraviolet profond (DUV) à faisceau unique ou double faisceau avec des technologies de résistance avancées. Les parties centrales de cette unité sont un laser ultraviolet profond, un processeur de résistance et un étage d'alignement fin. Le laser ultraviolet profond émet un faisceau à une longueur d'onde de 248nm, ce qui le rend idéal pour créer des caractéristiques extrêmement petites sur la plaquette imprimée. Il peut également traiter jusqu'à huit couches simultanément, apportant une augmentation significative de la productivité. Le processeur de résistance intégré et l'étape d'alignement fin permettent de contrôler avec précision l'ensemble du processus de photolithographie. De plus, TEL ACT 8 a été conçu pour minimiser les temps de cycle de production. TOKYO ELECTRON ACT 8 intègre également plusieurs fonctionnalités avancées. Il est capable d'atteindre une résolution aussi faible que 12nm en une seule passe, permettant la création de motifs de circuits très complexes. La machine comprend également des capacités de mise au point dynamique, permettant de corriger tout désalignement au cours du processus d'exposition. De plus, TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 dispose d'un outil sophistiqué de gestion des recettes, d'une interface utilisateur intuitive et d'un contrôle précis de l'uniformité. ACT 8 est très fiable et capable de maintenir la résolution souhaitée jusqu'à 100 plaquettes. TOKYO ELECTRON a effectué des tests de fiabilité intensifs pour garantir des performances supérieures même dans les conditions les plus extrêmes. Cet actif répond aux exigences des plus grandes entreprises internationales de semi-conducteurs et a été adopté par beaucoup d'entre elles à travers le monde. Le modèle photorésist peut être utilisé dans un large éventail d'industries, de l'électronique aux pièces automobiles et aux dispositifs médicaux. TEL ACT 8 offre une précision inégalée et est bien adapté pour des tâches exigeant des détails très fins, comme dans les micro-LED et les micro-résistances. L'équipement est également rapide, efficace et fiable, ce qui le rend idéal pour des opérations de production à haut volume. Peu importe les exigences, ACT 8 fournit les meilleurs résultats de qualité avec un minimum de temps d'arrêt. La combinaison de précision, d'efficacité et de fiabilité en fait le choix idéal pour toute application exigeant le plus haut niveau de performance.
Il n'y a pas encore de critiques