Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9314468 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance conçu spécifiquement pour les applications de lithographie. Son but principal est d'assurer un contrôle précis du revêtement en résine sur le substrat, permettant l'exposition de caractéristiques d'échelle micronique telles que des trous de contact. Le système se compose de plusieurs composants, chacun remplissant un but spécifique. Les composants principaux sont : Une piste sous vide : elle est réalisée en acier inoxydable et permet au substrat de se déplacer à travers les différentes stations à l'intérieur de l'unité. Il permet également d'assurer un revêtement de résistance uniforme. Une machine de placement de plaquettes : elle utilise un moteur pas à pas pour localiser précisément le substrat à une position exacte à l'intérieur de l'outil. Une chambre de revêtement : c'est là que la résine est appliquée et cuite sur le substrat. La chambre contrôle également les conditions environnementales à l'intérieur de la chambre pour obtenir un revêtement de résistance uniforme. Un applicateur de résine : ceci applique la résine sur le substrat par un procédé d'enrobage de spin. Un atout d'imagerie thermique haute résolution : ce modèle permet l'exposition de caractéristiques d'échelle micron telles que les trous de contact. Il est constitué d'un élément chauffant et de lignes de refroidissement qui se déplacent autour du substrat et contrôlent précisément la température. Un équipement d'exposition au faisceau laser : ce système utilise un faisceau laser pour exposer le motif sur la couche de photorésist sur le substrat. Globalement, l'unité de photorésistance TEL ACT 8 est conçue pour assurer un contrôle fiable et précis du revêtement en résine sur le substrat, assurant des résultats satisfaisants. Avec une empreinte compacte et un bon contrôle thermique, la machine peut être utilisée dans une variété d'applications. Grâce à sa capacité d'imagerie haute résolution, il peut également exposer facilement des caractéristiques à l'échelle micron. L'outil fournit également aux utilisateurs une variété de paramètres pour optimiser le processus pour les besoins spécifiques de chaque utilisateur. Cela en fait un outil précieux pour les applications de lithographie, et essentiel pour les processus avancés de microfabrication.