Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9315802 à vendre en France
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ID: 9315802
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
(3) Coater / (4) Developer system, 8"
Dual block
Controller
Touch panel
(4) Open Cassettes
Transfer arm
RRC Pump: CSB
(3) COT Spins
With (3) Nozzles (2-1, 2-2: COT / 2-3 TCT)
Nozzle for DEV Spin
WEE Unit
IFB Arm
Lamp house
AC Power
(2) SMC Temperature control units
(2) Chemical cabinets
COSAM Cup temperature / Humidity
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement photorésist de nouvelle génération qui fournit une lithographie et une gravure précises à l'échelle du nanomètre. Il fait partie d'une famille de produits conçus et fabriqués par TEL et son partenaire TOKYO ELECTRON. TEL/TOKYO ELECTRON/TOKYO TEL ACT 8 offre des niveaux de précision, de vitesse et de flexibilité sans précédent dans le contrôle des processus de lithographie. Le système se compose d'une unité principale de lithographie alimentée par un contrôleur de médias numériques haute performance. L'unité de lithographie est capable de traiter un large éventail de matériaux, y compris le verre, les polyimides, la silice oxydée et d'autres métaux. Il peut également être utilisé pour réaliser des processus de gravure critiques nécessitant une grande précision, tels que la gravure plasma, la gravure ionique réactive et la gravure par faisceau d'ions. Les composants principaux de la machine comprennent un contrôleur de médias numériques, des capteurs, des buses et une variété d'instruments de processus. Le contrôleur des médias numériques est chargé de contrôler les paramètres de l'outil, y compris les temps d'exposition, les distances de focalisation et les points de focalisation. Les capteurs mesurent la topographie de surface du matériau afin que l'actif puisse maintenir les conditions d'exposition souhaitées. Les buses sont utilisées pour libérer de petites quantités de matériaux de gravure ou de photorésist sur la surface du matériau, assurant ainsi le respect des exigences de procédé désirées. Le modèle comprend également une gamme de sources d'énergie et d'options de processus. Cela permet la formation de structures et de motifs avec une précision au niveau du nanomètre. L'équipement utilise une variété de sources d'énergie et d'options de processus, y compris un générateur de motifs, des systèmes de balayage laser, écriture laser directe et lithographie de faisceaux d'électrons. De plus, le système est également équipé d'une unité intégrée d'éclairage hélium-xénon pour assurer un éclairage uniforme de la surface de l'échantillon. TOKYO ELECTRON ACT 8 est une machine de lithographie et de gravure de précision. Il convient à des procédés tels que la microélectronique, l'optoélectronique, l'emballage de dispositifs médicaux et les conceptions MEMS. Il permet la fabrication de structures nanométriques avec une précision, une vitesse et une flexibilité exceptionnelles. L'ensemble d'outils complet de l'outil et ses performances fiables en font un excellent choix pour les applications de lithographie et de gravure de haute précision.
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