Occasion TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9352785 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement de photorésistance conçu pour le revêtement, l'alignement et l'exposition de photorésists pour la fabrication de semi-conducteurs. Ce système offre une combinaison de fonctionnement à grande vitesse et de reproductibilité exceptionnelle des résultats, avec une flexibilité qui permet aux utilisateurs de personnaliser leur utilisation de la résine photosensible pour l'optimiser pour leurs processus spécifiques. TEL ACT 8 est conçu avec une capacité de débit très élevée et s'aligne avec son mode de balayage robotisé en deux étapes qui est basé sur un contrôle continu de bord haute vitesse et haute précision. Cette approche simplifiée permet le revêtement, l'alignement et l'exposition à des vitesses allant jusqu'à 1000mm/s pour les grands substrats. L'unité dispose également d'une machine de contrôle thermique avancée, qui fournit une épaisseur stable et des résultats de composition même dans les processus de gros lots et est conçu pour des rampes de fonctionnement agressives. Pour assurer une plage de température et des performances uniformes, TOKYO ELECTRON ACT 8 est également conçu avec un outil de contrôle environnemental multi-zones. Cet actif permet de maintenir le fonctionnement du dépôt et des autres procédés dans une plage de température étroite et d'assurer la bonne composition et l'épaisseur de la couche de résine photosensible à chaque cycle. Le modèle ACT 8 est également doté d'un équipement sous vide avancé qui aide à réduire la contamination, à augmenter l'uniformité d'exposition et à fournir une plus grande précision dans la formation de l'image. Le système est piloté par ordinateur et est conçu de façon modulable pour offrir de la flexibilité et assurer une maintenance efficace et des mises à niveau de l'unité. En résumé, TOKYO ELECTRON ACT 8 est une machine de photorésistance avancée qui offre une combinaison de fonctionnement à grande vitesse et de reproductibilité des résultats. L'outil est conçu pour maintenir les dépôts et l'exposition dans une plage de température très étroite afin d'assurer l'uniformité et la précision, et dispose d'un actif sous vide avancé pour réduire les contaminants et augmenter l'uniformité de l'exposition. Le modèle de contrôle informatique est conçu de façon modulable pour faciliter la maintenance et les mises à jour, et offre un haut niveau de personnalisation de l'utilisateur pour optimiser l'équipement de photorésistance pour les besoins spécifiques du processus.