Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9106025 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un équipement de photorésistance utilisé pour graver des motifs à la surface de substrats semi-conducteurs DUV. Les photorésistes sont des produits chimiques sensibles à la lumière utilisés en lithographie pour transférer un motif d'un masque ou d'un réticule vers le substrat. Ce système permet de définir avec précision le motif qui sera gravé sur le substrat. TEL Clean Track ACT 12 comprend trois modules : le Corona Igniter, le Resolution Enhancement Technology (RET) et le Step and Repeat Unit (SRU). Le Corona Igniter est la première étape du processus. L'Igniter introduit un produit chimique spécial appelé initiateur à la surface du substrat, activant la résine photosensible sur le substrat pour former une couche protectrice. Cette couche de protection permet de modeler avec précision la résine photosensible après exposition à la lumière ultraviolette (UV). Le module RET porte alors le substrat photorésistant activé au niveau suivant. Ce module utilise des techniques d'imagerie extrêmement avancées pour créer des motifs détaillés et précis dans la couche de résine photosensible avec un très haut degré de résolution. Il combine un certain nombre de technologies telles que l'imagerie au niveau des contacts, le rétrécissement et la réduction des points pour atteindre cet objectif. Le SRU est le troisième et dernier module de TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12. Ce module prend le motif photorésist défini par le module RET et le transfère sur un masque ou un réticule. Il faut alors plusieurs expositions à un pas pour transférer le motif sur le substrat. Le stepper est un dispositif qui déplace le réticule dans un motif exact avec des intervalles précis de sorte que chaque position est correctement exposée. Clean Track ACT 12 est une unité photorésist très fiable et précise. Avec sa combinaison du Corona Igniter, du module RET et du SRU, il peut définir avec précision et finesse les motifs à graver sur des substrats avec un haut degré de résolution et de précision. Cette machine est utilisée dans de nombreuses industries et est considérée comme l'un des systèmes photorésistants les plus avancés disponibles.