Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9138480 à vendre en France
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ID: 9138480
Taille de la plaquette: 12"
Coater / (2) Developers system, 12"
Single block
IFB.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour des applications de nettoyage et de gravure très élevées dans l'industrie des semi-conducteurs. Le système est conçu pour assurer un contrôle précis du processus de gravure photorésist, lui permettant d'obtenir les résultats souhaités tout en minimisant les déchets. TEL Clean Track ACT 12 utilise une combinaison de propriétés de pulvérisation, de gravure et de cuisson pour produire des motifs gravés ultra fins et de haute précision sur des matériaux de taille et d'épaisseur variables. Photoresist est un polymère sensible à la lumière utilisé dans le processus lithographique pour créer de minuscules caractéristiques sur les plaquettes de silicium. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 utilise un laser ultra-rapide UHF à l'état solide pour pulvériser de la résine photosensible sur la plaquette. Cette caractéristique garantit que le motif ne se déforme pas en raison de conditions thermiques agressives que l'on retrouve couramment dans d'autres systèmes. Clean Track ACT 12 comprend également une unité de gravure à grande vitesse gérée par des commandes laser et électriques précises. Cette machine est capable de graver avec précision des motifs complexes avec une précision de répétition allant jusqu'à 0,5 μ m. La gravure est utilisée pour créer le motif désiré sur la surface de la plaquette, qui est ensuite revêtue d'une résine photosensible sensible à la lumière ultra-violette. La lumière UV est utilisée pour graver sélectivement le motif désiré sur la résine photosensible. Enfin, après gravure, la plaquette est soumise à un cycle de cuisson. Ce procédé est mis en oeuvre pour renforcer encore la précision des motifs et éliminer toute résine photosensible restante à la surface du substrat. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est conçu pour surveiller les caractéristiques thermiques du processus de cuisson afin que le résultat soit précis et reproductible. En conclusion, TEL Clean Track ACT 12 est un outil de photorésistance avancé conçu spécifiquement pour des applications de gravure et de nettoyage de haute performance et de très haute précision dans l'industrie des semi-conducteurs. Il utilise une combinaison de propriétés de pulvérisation, de gravure et de cuisson pour produire des caractéristiques ultra-fines sur des substrats de tailles et d'épaisseurs variables. Avec une précision de répétition allant jusqu'à 0,5 μ m, TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est capable de produire des résultats de très haute qualité avec un minimum de déchets.
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