Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9154831 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un équipement de photorésistance qui fournit aux utilisateurs un processus efficace et rapide de développement de photorésist sur substrats. Ce système permet aux utilisateurs de créer des images haute résolution sur la surface de la plaquette et ainsi réduire le temps nécessaire et améliorer la qualité de leurs produits. L'unité fonctionne en exposant la lumière au substrat à travers un masque qui est ensuite stabilisé par un vide. Ceci permet aux substrats de développer des images négatives ou positives utilisables pour la fabrication. La résine photosensible est maintenue en surface, et le vide stabilise la couche. La caractéristique la plus importante de cette machine est qu'aucun contact manuel n'est nécessaire entre les couches et le substrat, car le vide permet de stabiliser la géométrie et la pression de la résine photosensible. La résine photosensible est retirée de la surface une fois l'exposition à la lumière terminée. Il est ensuite redéveloppé par filage du substrat à l'intérieur d'une chambre remplie d'une résine photosensible liquide. La résine photosensible en surface est encore durcie par le spin du substrat et le liquide est ensuite évacué à l'écart de la surface. Ce procédé améliore les performances des photorésistes car il forme une couche mince et uniforme. TEL Clean Track ACT 12 offre aux utilisateurs la précision et la précision nécessaires pour produire des composants photosensibles haute résolution et haute précision. L'outil offre également une propreté supérieure aux substrats, grâce à son niveau de vide élevé. L'actif offre également une précision de piste exceptionnelle lors du déplacement du substrat entre le masque et le substrat, permettant une exposition précise et précise. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 offre aux utilisateurs un moyen fiable et efficace de produire des composants photosensibles. Le modèle fonctionne en exposant la lumière au substrat, en stabilisant la couche par un vide, en éliminant la résine photosensible, puis en la redéveloppant à l'aide de spin dans une chambre remplie d'une résine photosensible liquide. L'équipement fournit une excellente propreté, précision et précision, offrant aux utilisateurs le plus haut niveau de qualité dans les composants photosensibles.