Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9216089 à vendre en France
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ID: 9216089
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
Coater / (2) Developer system, 12"
With system controller
Left to right
I/F Wafer stage type: NIKON Type (SFl3)
Carrier station:
Foup cassette
Uni-cassette
(3) Cassettes
Coater unit:
(6) Dispense nozzles with temperature controlled lines
MILLIPORE RDS Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse system: 3 Liters (2) buffer tanks
Degassing system
Programmable side rinse:
PR Nozzles (1-6): (36) Bottles
Thinner supply (Bottle / Nozzle): CCSS
AMC Suck-back valve
Direct drain
Developer unit:
H-Nozzle
Stream nozzle for DI rinse
Developer system:
(2) 3 Liters buffer tanks
Developer supply: CCSS
Degassing system
Developer temperature control system
Direct drain
Adhesion unit:
Sealing closed chamber
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply: Local bottle
(5) Low temperature hot plates (LHP)
(4) Chill plates (CPL)
(4) Precision chilling hot plates (CHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
WEE Unit (Wafer edge exposure)
UV Sensor: I-line
Chemical cabinet:
Solvent
HMDS
DEV Chemical cabinet
SHINWA ESA-8 Series Temperature / Humidity controller
Temperature Control Unit (TCU)
AC Power box
2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un équipement de photorésistance utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Il se compose d'un système de traitement photorésist et d'une piste pas à pas combinés en une seule unité intégrée pour fournir un environnement à faible teneur en particules. L'unité de photorésistance est la première étape de fabrication de dispositifs semi-conducteurs et sert à créer de petits motifs sur le substrat. La photorésist est exposée à la lumière, soit à partir d'un photomasque, soit à partir d'un faisceau d'électrons, selon le motif créé. On développe alors la résine photosensible exposée et on transfère le motif obtenu sur le substrat. TEL Clean Track ACT 12 est conçu pour être aussi efficace, propre et à faible teneur en particules que possible. Ceci est réalisé grâce à sa machine pas à pas avancée, qui fonctionne en conjonction avec l'outil de traitement de la résine photosensible. L'actif pas à pas est conçu pour réduire le nombre de particules créées par le photomasque pendant le processus d'exposition. Il le fait en capturant les particules et en les isolant entre la piste et le photomasque pendant le traitement. Les particules sont ensuite retirées et éliminées en toute sécurité. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 dispose également d'un modèle avancé de suivi de la température qui peut directement imposer le contrôle de la température en corrélant les températures du faisceau d'électrons avec les temps de processus et la dose. Cela réduit les risques de défauts causés par les changements de température lors du traitement. Clean Track ACT 12 est un outil inestimable dans le domaine en pleine croissance de la fabrication de semi-conducteurs. Sa combinaison d'un traitement photorésistant avancé, d'un équipement pas à pas et de capacités de suivi de la température fournit des résultats précis dans un environnement à faible teneur en particules. Il est de plus en plus populaire parmi les fabricants de dispositifs en raison de son efficacité et de son efficience.
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