Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9216090 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un équipement avancé de traitement de la photorésistance conçu pour la microfabrication des semi-conducteurs. Ce système utilise la technologie de reconstitution de liquide, d'immersion et de balayage sans contact pour fournir des résultats précis de résistance et sans particules pour les procédés semi-conducteurs avancés. L'unité se compose d'un ensemble de scanners, de distributeurs multiples, d'une rondelle de recirculation et d'un logiciel de productivité. L'ensemble scanner permet un contrôle précis de la dose de résistance et de l'uniformité avec un balayage sans contact haute résolution. Les distributeurs fournissent les solutions de nettoyage et de résistance nécessaires à la machine. La rondelle de recirculation permet de reconstituer en continu le liquide, d'éliminer les particules et autres matières qui peuvent contaminer l'outil et ainsi résister aux résidus. Enfin, le logiciel de productivité fournit en temps réel un retour d'information sur la performance des actifs et une vérification des performances pour l'optimisation des modèles. L'équipement est conçu dans un environnement de faible entretien ; la proximité des distributeurs, la rondelle de recirculation et le scanner permettent un entretien minimal et des performances optimales. Ce système est également capable de traiter en grande surface jusqu'à 456 millimètres à une résolution de 20 microns, ce qui est essentiel pour les étapes avancées du processus de semi-conducteur. De plus, le temps d'arrêt de l'unité est minimisé en raison du processus de récupération rapide suivant la solution sur-dosée, fournissant ainsi un résultat cohérent pour chaque lot. La photorésistance ACT 12 est conçue pour suivre le traitement avancé des semi-conducteurs. En utilisant sa capacité de balayage sans contact, la reconstitution des liquides et les technologies de reconstitution des LED, cet outil est capable de fournir des résultats sans particules avec une résistance à la dose de haute précision. Cet atout est conçu pour fournir la meilleure performance substrat/résistance pour les processus de microfabrication de nouvelle génération.