Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9242356 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un équipement photorésist de haute qualité qui combine une lithographie fiable avec des systèmes de processus automatisés. Le système est conçu pour faciliter la lithographie à haut volume dans la production de puces de silicium. L'unité contient une machine à faisceau d'ions, un outil de refroidissement submersible, une chambre d'exposition et un actif optique in situ. Le modèle de faisceau d'ions est responsable de la gravure précise de la résine photosensible. L'équipement de refroidissement submersible aide à réduire les contraintes thermiques et les niveaux de contamination dans le système. La chambre d'exposition émet un rayonnement actif sur le matériau photorésist à développer. Ce rayonnement peut être choisi parmi une variété de longueurs d'onde. L'unité optique in situ est chargée de contrôler l'intensité lumineuse. Cette caractéristique est importante, car elle permet à la machine photorésist de reproduire avec précision les dessins des puces. L'activation des fonctionnalités de TEL Clean Track ACT 12 se fait par étapes. D'abord, les réglages optiques requis sont saisis, puis la résine photosensible est exposée au rayonnement. Une fois le processus d'exposition terminé, l'outil de faisceau d'ions est actionné ; cela aide à graver le matériau photorésist. Enfin, l'actif de refroidissement submersible permet de réduire les contraintes thermiques et les niveaux de contamination. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est également équipé d'un modèle d'alarme et/ou de surveillance. Cela aide à détecter tout défaut dans le processus, et il peut également fournir des données de maintenance. Cette caractéristique garantit que l'équipement photorésist fonctionne efficacement et évite tout dommage potentiel au système. Clean Track ACT 12 est une unité très efficace et fiable pour la lithographie. Il est capable de produire des modèles de haute précision et peut facilement être combiné avec des systèmes de processus automatisés. Cette caractéristique est particulièrement intéressante dans la réalisation de puces de silicium. La combinaison de la machine à faisceau d'ions, de l'outil de refroidissement submersible, de la chambre d'exposition et de l'actif optique in situ garantit que la résine photosensible est gravée avec précision et exposée aux longueurs d'onde souhaitées. Le modèle d'alarme et de surveillance améliore encore l'efficacité et la fiabilité de l'équipement.