Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9259917 à vendre en France
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ID: 9259917
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2002
Resist coater / Developer system, 12"
Single block
Track 1:
PI Coater cup
(2) Developer cups
ADH
Track 2:
Resist reduction:
Developer: H Nozzle
Resist pump:
SHV 15 ml (Line 1)
RDS 10 ml (Line 2~6)
Oven configuration:
(2) PHP
(3) CPL
(4) Standard LHP
(2) High EXH LHP
Track chemicals:
Resist supply:
Gallon bottle
Coat bottle
Thinner: OK73
2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un équipement de traitement de photorésistance conçu pour la fabrication de plaquettes et de masques. Le système offre des performances supérieures, des résultats fiables et une empreinte compacte pour les opérations de lithographie industrielle. L'unité dispose d'un scanner laser ultraviolet pour l'imagerie directe de photorésist avec une excellente qualité d'image et la résolution. Le laser crée des motifs d'exposition précis dans la résine photosensible avec une résistance minimale aux résidus de cendres ou aux pertes d'énergie. La conception avancée du scanner permet également un traitement à grande vitesse et un fonctionnement facile. La machine dispose également d'un contrôle automatisé des processus pour garantir des résultats reproductibles et stables. Il est équipé de contrôle d'intensité laser, de contrôle de température et de mouvement, de contrôle de résistance, de contrôle d'épaisseur et de suivi de processus. L'outil intégré peut effectuer plusieurs processus d'exposition avec un suivi simultané de chaque processus. En plus d'améliorer le rendement, TEL Clean Track ACT 12 présente également une meilleure empreinte environnementale. L'actif utilise une conception optimisée pour réduire la consommation d'eau et d'électricité, ainsi qu'un entretien amélioré avec moins de pièces. Il dispose également d'un fonctionnement plus silencieux. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un choix idéal pour les opérations de fabrication de plaquettes et de masques qui nécessitent un contrôle de précision et des performances de la production à grande échelle aux petites séries de production. Le modèle offre des performances supérieures dans une faible empreinte, ce qui en fait une solution rentable pour les opérations de lithographie industrielle.
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