Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9269255 à vendre en France
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ID: 9269255
Taille de la plaquette: 12"
(2) Coater / (2) Developer system, 12"
Single block.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un système photorésist conçu pour une précision lithographique supérieure et des performances de processus. La photorésist est un procédé chimique utilisé dans la production de composants de circuits intégrés et d'autres dispositifs microélectroniques. TEL Clean Track ACT 12 est un système à base de matériaux chimiques en deux étapes, composé de trois composants principaux : une résistance photorésiste positive, une résistance pré-spin et une résistance photorésiste négative. Des résistances photorésistantes positives sont utilisées dans des procédés de fabrication de semi-conducteurs tels que la gravure de contact, la gravure de contact de grille, la gravure diélectrique et le dopage au silicium polycristallin. Cette résistance a une grande sensibilité à la lumière ultraviolette (UV) et produit un motif de piste de mouvement sur la surface de la plaquette. La résistance pré-spin joue également un rôle important dans la fabrication des semi-conducteurs. Il stabilise la structure du film et initie la gravure du motif de masque. Enfin, on utilise une photorésist négative pour éliminer les parties indésirables du motif, sans attaquer les parties désirées. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 offre une précision lithographique supérieure en raison de sa capacité à contrôler avec précision l'épaisseur de la résistance, le motif CD et l'uniformité de la résistance. Cela est réalisé grâce à sa surveillance avancée du développement des films, à son outil de réflexion arrière de haute précision et à d'autres fonctions intégrées de contrôle des processus. En outre, le système est équipé d'un ensemble d'alimentation automatisé, ce qui est essentiel pour produire des composants dont les géométries et les dimensions sont cohérentes. De plus, Clean Track ACT 12 dispose d'un mécanisme élévateur haute résolution qui permet un intervalle de résistance uniforme entre la plaquette et le substrat. Il en résulte des pièces de plaquette de haute qualité avec une contamination réduite, un rendement accru et des performances améliorées.
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