Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9269256 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un système de photorésistance conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Il fournit des résultats cohérents et de haute qualité avec une propreté supérieure et une manipulation supérieure des substrats. Ce système est une plate-forme très polyvalente pour le développement de photorésistances pour diverses applications de dépôt, y compris le dépôt électrostatique, la planarisation chimico-mécanique (CMP) et d'autres applications spécialisées. TEL Clean Track ACT 12 se compose de trois composants principaux : l'ordinateur central, le processeur principal et les progiciels associés. L'ordinateur central abrite la table tournante à deux axes, qui est nécessaire pour maintenir les substrats cibles pendant le traitement. Le processeur principal contient tous les composants nécessaires pour exécuter le logiciel requis pendant le processus photorésist. Cela inclut les calculs pour contrôler la vitesse et la précision de l'application, ainsi que le logiciel réel qui est nécessaire pour créer le motif désiré. En outre, le processeur contient également tous les composants nécessaires au fonctionnement de l'écran tactile à microprocesseur qui permet à l'opérateur de contrôler précisément les paramètres du processus. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 comprend divers outils pour le dépôt optimal de photorésist sur le substrat. Il s'agit de plaques de masque pour l'application de la résine photosensible, ainsi que d'un outil auxiliaire utilisé pour transférer le matériau photosensible de la plaque de masque vers le substrat. Le système comprend également un outil de chauffage au laser pour créer un revêtement uniforme sur le substrat, et une fixation sous vide pour le nettoyage après la fin du processus. Le nettoyage et le traitement du substrat se font au moyen d'une machine spécialisée qui utilise une combinaison de nettoyants chimiques, de nettoyants abrasifs et de solutions de gravure pour éliminer les contaminants du substrat. Après élimination de la contamination, on applique une amorce chimique puis on laisse sécher avant l'application de résine photosensible. Le dépôt de photorésist se fait alors à l'aide d'une série d'impulsions rectangulaires d'une largeur et d'une fréquence déterminées. Des traitements supplémentaires peuvent être utilisés pour améliorer l'adhérence de la résine photosensible au substrat, si nécessaire. Clean Track ACT 12 fournit des résultats cohérents et de grande qualité avec une propreté supérieure et une manipulation supérieure des substrats. C'est une plate-forme idéale pour développer des photorésistes pour diverses applications de dépôt et se spécialise dans le dépôt électrostatique, la planarisation chimico-mécanique et d'autres applications spécialisées.