Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9278612 à vendre en France

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ID: 9278612
(4) Coater / (4) Developer system, 12" Right to left Carrier type: Notch 25-Slots (3) Main controllers (2) Processor blocks (2) PRB's (2) Thermo controllers NIKON Stepper H-Type nozzle CSB IFB Main system: Main frame with system controller (4) ASYST RFID FOUP Systems Normal cassette type Coater unit (2-1, 2-2, 2-3, 2-4): (4) Dispense nozzles with temperature control lines RDS pump Rinse nozzle: EBR / Back rinse / Solvent bath (2) Rinse systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters) Degas system Programmable side rinse Direct drain type Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4) NDP type: NLD Nozzle Stream nozzles for DI rinse 2-Points for back side rinse (2) Developer systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters) Degas system Developer temperature control system Direct drain type (2) Adhesion units: 100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate) HMDS Tank with float sensor Local HMDS supply (12) Low Temperature Hot Plates (LHP) (2) Cup Washer Holders (CWH) (13) High-Speed Cill Plates (HCP) (6) High-Precision Hot Plates (PHP) Transition Chill Plate (TCP) (2) Transition Stages (TRS) (2) Wafer Edge Exposures (WEE) Chemical cabinet 1: HNDS and Solvent supply system Chemical cabinet 2: DEV Solution and DIW supply system (2) Temperature Control Units (TCU) MFC Missing parts: IRA Z-Axis driver IRA Y-Axis driver IRA TH-Axis driver Temperature and humanity controller Hard Disk Drive (HDD) Power supply: AC 200/220 VAC, 3 Phase 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un équipement de traitement de photorésistance développé par TEL (TOKYO ELECTRON). Il supporte à la fois les procédés lithographiques et les étapes de post-traitement intervenant dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système combine un scanner laser, une unité d'immersion liquide et une distribution et un alignement automatiques, ce qui en fait un outil polyvalent pour le traitement des résines photosensibles. Le scanner laser est utilisé pour exposer la couche de résine photosensible sur une plaquette de silicium à l'aide de largeurs d'impulsions laser ultra-courtes. L'impulsion laser est finement ajustée pour refléter la couche de photorésist pour des motifs de caractéristiques exigeants. La machine d'immersion de liquide assure un revêtement photorésist uniforme en tirant parti de la flottabilité naturelle du liquide distribué à l'intérieur de la chambre de traitement. La distribution et l'alignement permettent l'application précise de couches de résistance supplémentaires selon les besoins. TEL Clean Track ACT 12 permet une exposition différente et résiste aux paramètres de traitement qui peuvent être ajustés pour varier les caractéristiques souhaitées. Il offre un choix de caractéristiques de haute densité ou de contrôle de largeur de ligne pour les processus de gravure. Cela offre à l'utilisateur la polyvalence nécessaire pour adapter le traitement aux exigences de conception spécifiques. L'outil a intégré des caractéristiques de sécurité. Les capteurs de caméra en ligne dans le scanner laser assurent que la plaquette est correctement positionnée et qu'il n'y a pas de contamination. De plus, l'actif d'immersion fournit un moyen efficace de réduire la contamination photorésist, de sorte que les utilisateurs n'ont pas besoin de s'inquiéter de la contamination de la plaquette ou de la chambre de traitement. Conçu pour le traitement des plaquettes de 300 mm, le TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 offre des débits améliorés par rapport à ses prédécesseurs. Le modèle utilise des consommables peu coûteux et est extrêmement efficace dans l'utilisation de l'énergie, permettant aux utilisateurs de réduire leurs coûts de production tout en réduisant leur empreinte environnementale. Dans l'ensemble, Clean Track ACT 12 est un équipement de traitement de photorésistance de pointe conçu pour répondre aux exigences des dispositifs semi-conducteurs modernes. Sa technologie de balayage laser, d'immersion liquide et d'alignement permet un retournement rapide de la production, tandis que ses caractéristiques de sécurité intégrées assurent le maintien des niveaux les plus élevés de contrôle des processus. La conception peu coûteuse et économe en énergie du système en fait un outil économique précieux pour tout processus de production de semi-conducteurs.
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