Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9278612 à vendre en France
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Vendu
ID: 9278612
(4) Coater / (4) Developer system, 12"
Right to left
Carrier type: Notch
25-Slots
(3) Main controllers
(2) Processor blocks
(2) PRB's
(2) Thermo controllers
NIKON Stepper
H-Type nozzle
CSB
IFB
Main system:
Main frame with system controller
(4) ASYST RFID FOUP Systems
Normal cassette type
Coater unit (2-1, 2-2, 2-3, 2-4):
(4) Dispense nozzles with temperature control lines
RDS pump
Rinse nozzle: EBR / Back rinse / Solvent bath
(2) Rinse systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degas system
Programmable side rinse
Direct drain type
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4) NDP type:
NLD Nozzle
Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
(2) Developer systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degas system
Developer temperature control system
Direct drain type
(2) Adhesion units:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
Local HMDS supply
(12) Low Temperature Hot Plates (LHP)
(2) Cup Washer Holders (CWH)
(13) High-Speed Cill Plates (HCP)
(6) High-Precision Hot Plates (PHP)
Transition Chill Plate (TCP)
(2) Transition Stages (TRS)
(2) Wafer Edge Exposures (WEE)
Chemical cabinet 1: HNDS and Solvent supply system
Chemical cabinet 2: DEV Solution and DIW supply system
(2) Temperature Control Units (TCU)
MFC
Missing parts:
IRA Z-Axis driver
IRA Y-Axis driver
IRA TH-Axis driver
Temperature and humanity controller
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: AC 200/220 VAC, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un équipement de traitement de photorésistance développé par TEL (TOKYO ELECTRON). Il supporte à la fois les procédés lithographiques et les étapes de post-traitement intervenant dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système combine un scanner laser, une unité d'immersion liquide et une distribution et un alignement automatiques, ce qui en fait un outil polyvalent pour le traitement des résines photosensibles. Le scanner laser est utilisé pour exposer la couche de résine photosensible sur une plaquette de silicium à l'aide de largeurs d'impulsions laser ultra-courtes. L'impulsion laser est finement ajustée pour refléter la couche de photorésist pour des motifs de caractéristiques exigeants. La machine d'immersion de liquide assure un revêtement photorésist uniforme en tirant parti de la flottabilité naturelle du liquide distribué à l'intérieur de la chambre de traitement. La distribution et l'alignement permettent l'application précise de couches de résistance supplémentaires selon les besoins. TEL Clean Track ACT 12 permet une exposition différente et résiste aux paramètres de traitement qui peuvent être ajustés pour varier les caractéristiques souhaitées. Il offre un choix de caractéristiques de haute densité ou de contrôle de largeur de ligne pour les processus de gravure. Cela offre à l'utilisateur la polyvalence nécessaire pour adapter le traitement aux exigences de conception spécifiques. L'outil a intégré des caractéristiques de sécurité. Les capteurs de caméra en ligne dans le scanner laser assurent que la plaquette est correctement positionnée et qu'il n'y a pas de contamination. De plus, l'actif d'immersion fournit un moyen efficace de réduire la contamination photorésist, de sorte que les utilisateurs n'ont pas besoin de s'inquiéter de la contamination de la plaquette ou de la chambre de traitement. Conçu pour le traitement des plaquettes de 300 mm, le TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 offre des débits améliorés par rapport à ses prédécesseurs. Le modèle utilise des consommables peu coûteux et est extrêmement efficace dans l'utilisation de l'énergie, permettant aux utilisateurs de réduire leurs coûts de production tout en réduisant leur empreinte environnementale. Dans l'ensemble, Clean Track ACT 12 est un équipement de traitement de photorésistance de pointe conçu pour répondre aux exigences des dispositifs semi-conducteurs modernes. Sa technologie de balayage laser, d'immersion liquide et d'alignement permet un retournement rapide de la production, tandis que ses caractéristiques de sécurité intégrées assurent le maintien des niveaux les plus élevés de contrôle des processus. La conception peu coûteuse et économe en énergie du système en fait un outil économique précieux pour tout processus de production de semi-conducteurs.
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