Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9282380 à vendre en France
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ID: 9282380
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2003
Coater / Developer system, 12"
Left to Right
FOUP carrier
(3) FOUP Loader uni-cassetes
(3) Main controllers
(2) Thermo controllers
(2) Fire system boxes
PRB
CSB
IFB
Main system:
Main frame with system controller
Carrier station
FOUP Cassette
(3) Cassettes
Uni-cassette system
Coater unit:
(6) Dispense nozzles
With temperature control line
MILLIPORE RDS Pump
Rinse nozzle: EBR / Back rinse / Solvent bath
Rinse system: (2) Buffer tank systems (3-Liters)
Degassing system
Programmable side rinse
PR Nozzle
(6) Bottles
Thinner supply: CCSS
AMC Suck-back valve
Direct drain
Developer unit:
H Nozzle:
Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Developer supply: CCSS
Degassing system
Developer temperature control system
Direct drain
NIKON SF130 Wafer stage
Adhesion units:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply
(5) Low temperature Hot Plates (LHP)
(4) Chill Plates (CPL)
(2) Precision chilling Hot Plates (PHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
Wafer Edge Exposure (WEE) unit
I-line UV Sensor
Chemical cabinet 1: HNDS and Solvent supply system
Chemical cabinet 2: DEV Solution and DIW supply system
SHINWA Series ESA-8 Humidity controller
Temperature Control Units (TCU)
AC Power box
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un équipement de photorésistance (PR) conçu pour rendre la production de dispositifs semi-conducteurs plus rapide et plus efficace. C'est une solution très avancée qui est utilisée pour créer les motifs complexes pour le transfert de signaux électriques sur une surface de plaque de silicium. Le système se compose de plusieurs composants différents, dont certains sont conçus pour optimiser la précision des motifs et garantir un rendement très élevé. Le premier est TEL clean track ETCH. Cette machine utilise une combinaison de gravure sèche et de gravure chimique pour s'assurer que la plaquette est correctement conçue. Il existe également un outil de lithographie avancé pour configurer avec précision l'actif PR. Le modèle comprend également l'équipement AC-aimant pour contrôler la vitesse des couches PR et optimiser le transfert électronique de données. Ce système est également conçu pour réduire ou éliminer tout défaut dans le processus de production. TEL Clean Track ACT 12 est très fiable et dispose de plusieurs systèmes de sécurité intégrés. L'une d'entre elles est l'unité de surveillance du processus Clean-Track. Cette machine permet de contrôler chaque étape du processus et de corriger les erreurs éventuelles. L'outil dispose également d'un actif miroir en ligne qui est utilisé pour la surveillance de surface en temps réel pour s'assurer que les couches PR sont appliquées correctement. Une autre caractéristique importante de TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est sa capacité à modifier rapidement les paramètres des couches PR en fonction des besoins des produits en cours de fabrication. Cela permet une grande flexibilité et un temps de production plus rapide. Enfin, le modèle est également capable de détecter automatiquement les défauts éventuels au cours du processus de production. Cela permet un contrôle de qualité plus complet et plus rapide et la résolution rapide des erreurs éventuelles. Dans l'ensemble, Clean Track ACT 12 est un équipement de photorésistance très avancé et efficace. Sa combinaison de caractéristiques innovantes et de fiabilité en font le choix idéal pour la production rapide et précise de dispositifs semi-conducteurs.
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