Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9373073 à vendre en France

ID: 9373073
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2002
(2) Coater / (2) Developer system, 12" Load port: (3) FOUPs Main controller: Type 2 Coater 2-1 and 2-2: R1-R4 (4) PR Nozzles EBR Resist pump type: RRC Pump PR Filter type: Housing type Developer 2-3 and 2-4: Developing nozzle: Dual H nozzle Top rinse: Single nozzle Plates: (2) ADH, (7) LHP, (5) CPL, (4) PHP, (2) TRS, TCP IFB: WEE, Buffer, CPL, THS SHINWA ESA-8-T-01 Temperature and humidity controller SMC INR-244 Temperature control unit Chemical cabinet: HDMS: Gallon bottle supply Buffer tank: 3 L Solvent: CSS With 3 L buffer tank Developer: CSS with 3 L buffer tank AC Power box: AC200/220 V, 157 A, 10 kA, 3 Phase 2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un équipement de photorésistance conçu pour fournir une lithographie de précision sur des substrats d'imagerie de plaquettes. Il permet des techniques avancées de traitement des plaquettes, y compris une gravure à haut débit, une exposition au contact à haute densité et des applications de revêtement conformes. Le système combine une technologie avancée de contrôle des particules avec une conception matérielle et logicielle robuste pour des rendements lithographiques maximaux. TEL Clean Track ACT 12 comprend un mandrin sous vide de 12 pouces avec 6 régulateurs de température multi-zones pour un traitement rapide des plaquettes. Ceci est combiné avec un processus de vide ultra-élevé pour le refroidissement, la manutention et le nettoyage des plaquettes. Cela réduit le transfert de contaminants entre les régions exposées et non exposées de la plaquette, en veillant à ce que les résultats du processus soient cohérents et interfèrent le moins possible. Le cœur de la machine est la lentille de projection à base de laser CO2 qui fournit une imagerie précise et une exposition au rapport d'aspect élevé. L'outil d'alignement haute précision fournit une précision de niveau nanométrique, offrant la fiabilité et la précision requises pour les applications avancées de lithographie. L'actif peut accueillir jusqu'à 50 variations de taille de plaquettes, y compris une exposition double face qui double la productivité en imitant simultanément les deux côtés de la plaquette. De plus, la gamme de focalisation étendue du modèle permet une exposition de 0,4 à 40 microns aux petites lignes, ce qui permet aux utilisateurs de réduire le coût de production des circuits avec des applications de moyenne à haute densité. Le logiciel de contrôle de processus convivial offre une configuration simple et un fonctionnement simple, permettant un fonctionnement facile sur une large gamme de recettes de processus. L'équipement est compatible avec tous les grands résistants et développeurs, assurant une photorésistance optimale. En résumé, le système TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est un appareil photorésist fiable et précis conçu pour fournir une imagerie précise des plaquettes. Sa conception matérielle et logicielle robuste, combinée à l'imagerie laser avancée et au contrôle de la focalisation, permettent des résultats supérieurs pour l'imagerie à haut débit, les petites lignes et les processus d'exposition double face.
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