Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9395682 à vendre en France

ID: 9395682
Taille de la plaquette: 12"
System, 12" Single block FOUP Open cassette No nozzles No Stepper / Scanner interface No hot / chill / transfer plates and types No chemical cabinet No T&H (Temperature and Humidity) No power distribution box and AC transformer No IDI and RRC pumps No DEV and EBR systems No HDD.
L'équipement de photorésistance TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 est une machine de photolithographie automatisée de haute précision équipée de caractéristiques avancées conçues pour réduire la contamination et améliorer les performances. Le système est capable de traiter une variété de substrats et de produire des structures très précises avec un minimum de distorsion et de précision. TEL Clean Track ACT 12 utilise un procédé sous vide de pointe conçu pour éliminer les bulles d'air, la poussière et d'autres contaminants du substrat avant le traitement. La contamination du substrat est encore minimisée par l'utilisation d'un procédé spécialisé de nettoyage à haute température et haute pression. L'unité comprend également une machine automatique d'alignement optique qui augmente la précision en alignant avec précision le substrat et le masque pour chaque étape du processus de photolithographie. L'outil utilise des lampes d'exposition haute performance à 12 zones pour exposer précisément le substrat à la lumière, chaque zone étant contrôlée indépendamment par un actif contrôlé par ordinateur. Le temps d'exposition total peut être contrôlé avec précision afin d'assurer un traitement précis sans surexposition. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 utilise un ensemble de table à masque spécialisé, conçu pour maintenir des niveaux élevés de contrôle des vibrations et réduire les distorsions thermiques. En outre, le modèle est équipé de plusieurs contrôleurs et capteurs de rétroaction qui surveillent la pression, la température et les vibrations de la table pour maintenir ces niveaux dans les spécifications. L'équipement comprend également un système de distribution chimique avancé qui assure un revêtement chimique précis, ainsi qu'une unité de récupération chimique spécialisée qui récupère la résine photosensible pour réutilisation. A l'issue du processus de photolithographie, la machine est équipée d'une unité spéciale de post-traitement qui peut mesurer avec précision le profil du substrat afin de vérifier la précision et détecter les défauts éventuels. L'unité de post-traitement est également utilisée pour faciliter le processus de nettoyage, en éliminant les résidus chimiques et les contaminants restants. En résumé, Clean Track ACT 12 photoresist tool est une machine de lithographie automatisée très avancée conçue pour produire des structures de haute précision avec un minimum de distorsion et de précision. L'actif utilise plusieurs fonctionnalités avancées pour minimiser la contamination et améliorer la précision et la performance.
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