Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 7 #293656056 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 7 est un équipement de photorésistance constitué d'une plate-forme modulaire spécialement conçue pour la fabrication de mémoire avancée et de dispositifs haute densité. Ce système dispose du plus haut niveau de capacités d'automatisation et de contrôle des processus disponibles pour un traitement parallèle précis et rapide pour la lithographie multi-niveaux. TEL Clean Track ACT 7 est un équipement hautement spécialisé basé sur le traitement ponctuel optique projeté, qui est une technologie innovante de résistance à l'exposition développée par TEL. Cette technologie utilise une unité de projection à cristaux liquides (LC) monocouche pour projeter des données finement ajustées sur des zones d'éclairage aussi petites que 1 micron sur le film de résistance exposé. Cela permet de créer des images extrêmement précises et de résister à la propreté. La machine ACT 7 dispose également de plusieurs capacités d'automatisation, dont un changeur de photomasque de précision et une tête de suppression et d'exposition automatisée qui lui permettent de maintenir une création d'image très précise, grâce à un balayage complexe sans compromettre la qualité de l'image. Cet outil a également la capacité d'intégrer plusieurs matériaux de résistance sur une même plaquette, ce qui le rend adapté à une grande variété de procédés. De plus, l'ACT 7 appuie un large éventail de processus tels que le gâteau pré-exposition (PEB), le gâteau post-exposition (PEB) et le gâteau post-développement (APB). Son logiciel de lithographie de pointe prend également en charge divers modes de formation d'images, y compris la correction automatique de proximité optique (OPC) et les processus avancés de pré et post-patrons. En résumé, TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 7 est un actif photorésistant de pointe qui comprend un modèle de projection à cristaux liquides monocouche, une tête de suppression et d'exposition automatisée à balayage par fente, un changeur de photomasque de précision et un logiciel de lithographie hautement fiable qui permet une modélisation précise et propre pour la fabrication de mémoire avancée et de dispositifs haute densité. Il est adapté à un large éventail de processus, tels que PEB et PDB, et supporte une grande variété de modes de formation d'image.