Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 / ACT 12 #9138478 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8/ACT 12 est un équipement de photorésistance utilisé pour créer des motifs à haute résolution avec des composants de sous-microns pour diverses applications telles que les semi-conducteurs et d'autres composants microélectroniques. Le système est disponible en deux configurations - ACT 8 et ACT 12 - et est capable de traiter des plaquettes de 8 et 12 pouces respectivement. L'unité utilise des algorithmes avancés de contrôle de processus pour assurer des résultats de gravure précis et reproductibles et est idéalement adaptée pour traiter des couches photorésistantes dans lesquelles les attributs du motif sous-jacent sont très contrôlables au niveau des sous-microns. Le procédé et l'outil d'exposition contrôlés par microprocesseur de la machine permettent de modéliser avec une grande précision les caractéristiques des sous-microns. TEL Clean Track ACT 8/ACT 12 offre une gamme d'options de lithographie et d'exposition telles que la correction de proximité optique (OPC), le polissage chimique-mécanique (CMP) et la gravure laser pour les résistances aux ultraviolets (UV) et au faisceau d'électrons (EB). L'actif fournit également plusieurs fonctionnalités avancées pour le prétraitement des substrats, la gestion thermique et le traitement des plaquettes telles que des sous-systèmes intégrés pour le contrôle des contraintes/défauts, l'érosion des bords, le traitement stabi-R et l'auto-contrôle. Le modèle est également conçu pour la protection de l'environnement avec des processus automatisés qui surveillent en permanence l'utilisation du gaz et les niveaux de pression, en maintenant l'alimentation en air à l'intérieur de la chambre pour prévenir la contamination croisée et la formation d'odeurs. En outre, l'équipement dispose de dispositifs de sécurité intégrés pour garantir que les normes de protection les plus élevées sont atteintes. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8/ACT 12 fournit un système de photorésistance efficace pour diverses applications avancées de lithographie. Sa capacité à traiter des plaquettes de 8 et 12 pouces, combinée à sa gamme flexible d'options d'exposition et de lithographie et à ses fonctions avancées de contrôle des processus, en font une solution idéale pour créer des modèles haute résolution avec des composants sub-microns.