Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #162692 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance conçu pour des applications telles que la photolithographie de plaquettes semi-conductrices. Il s'agit d'une conception avancée avec des améliorations aux procédés traditionnels photorésist et SOLIDLINE PRECISION. Le système ACT 8 permet une lithographie haute résolution avec la réduction des erreurs de processus et de la contamination. Au cœur de l'unité ACT 8 se trouvent ses agents de pulvérisation ECD (Electron Cyclotron Deposition), qui servent à améliorer la qualité des couches photorésistantes. Les agents sont utilisés pendant le processus de pulvérisation, ce qui réduit les défauts et réduit le potentiel de contamination. Cela permet d'exposer une plus grande surface de la couche de résine photosensible, ce qui contribue à assurer une épaisseur uniforme et une topologie de surface uniforme. La machine ACT 8 bénéficie également d'améliorations à la chimie photorésist, lui donnant une résistance de collage beaucoup plus forte et une capacité de revêtement améliorée. Son faible taux de perte et son besoin réduit de corrections aident à économiser du temps et de l'argent en matière de photolithographie. En plus des agents de pulvérisation ECD, l'ACT 8 utilise également la technologie « pilier » brevetée TEL, qui aide à capturer les matériaux photorésistes plus efficacement, réduisant le besoin de corrections et assurant une meilleure uniformité avec la couche de photorésist. Il réduit également le nombre de particules susceptibles de provoquer une décharge électrostatique au cours du processus. L'outil ACT 8 offre également un piégeage amélioré des défauts et une zone sans défaut plus profonde. Cela contribue à améliorer la qualité des caractéristiques critiques au cours du processus de lithographie, tout en réduisant les risques de pertes de rendement liées à l'écorce et aux défauts. Enfin, l'actif ACT 8 utilise une suite logicielle experte, qui permet d'analyser et de prédire le comportement de la couche de photorésist et de détecter les éventuels problèmes avant qu'ils ne deviennent irréversibles. Le logiciel contribue également à réduire le temps de programmation, assurant une production efficace. TEL Clean Track ACT 8 offre un moyen efficace et fiable de traiter les plaquettes avec des procédés de lithographie améliorés, ainsi que des produits chimiques et des logiciels améliorés. Cela en fait un choix idéal pour toutes les applications de semi-conducteurs nécessitant un processus de photolithographie complexe.