Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #293592456 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour les procédés avancés de lithographie nanotech. Le système est équipé de deux scanners, l'un fonctionnant dans l'ultraviolet et l'autre dans l'infrarouge. L'unité est conçue pour fournir une précision et une répétabilité exceptionnelles, ainsi qu'une homogénéité supérieure, même sur de longues périodes de fonctionnement. TEL Clean Track ACT 8 est une machine unique qui utilise un mécanisme de focalisation automatique avancé, une technologie d'isolation exclusive et un réglage actif du rapport de contraste de la résine photosensible pour assurer une grande précision dimensionnelle du motif résultant. La fonction auto-focus permet une optimisation rapide, précise et répétable de la position et de la profondeur de la mise au point, assurant un transfert constant de motifs de haute précision. Le mécanisme d'isolation breveté réduit considérablement les vibrations photorésistantes ou d'autres sources de distorsion en fonctionnement. Enfin, la fonction de réglage de contraste actif permet à l'outil d'ajuster le rapport de contraste en fonction de la résolution de motif souhaitée. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un actif à quatre voies composé d'une étape d'éclairage, d'une étape de photolithographie, d'une étape de cuisson post-exposition (PEB) et d'une étape de revêtement/développement. Les composants optiques sont isolés dans un environnement scellé à chaque étape afin de minimiser les contaminants. Des dispositifs de piégeage spéciaux sont utilisés pour éviter la génération de particules qui peuvent provoquer une distorsion du motif. Les étapes d'éclairage et de photolithographie utilisent une variété d'optiques de haute précision, y compris la technologie avancée d'hystérésis optique pour maintenir la distorsion causée par les changements thermiques très faible. L'étage de cuisson post-exposition est équipé de lampes halogènes à quartz qui assurent un chauffage uniforme. La température du procédé PEB peut être ajustée avec précision pour contrôler la qualité du transfert de motifs. L'étape de cuisson post-exposition peut accueillir jusqu'à huit cassettes, ce qui permet de réduire le temps consacré aux processus de cuisson post-exposition. L'étage de revêtement/développement est équipé d'un bras robotique de haute précision pour le déplacement précis des plaquettes. L'unité de génération de plasma est utilisée pour la gravure précise pour le développement de motifs ainsi que pour le nettoyage des plaquettes. Les plaquettes sont ensuite exposées à une optique d'imagerie précise et haute résolution pour un transfert de motifs supérieur. Clean Track ACT 8 est un modèle de photolithographie complet et de haute précision conçu pour maximiser l'efficacité et assurer un transfert précis des motifs. Ses caractéristiques avancées rendent l'équipement robuste, fiable, précis et répétable, même sur de longues périodes de fonctionnement.