Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #293682819 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement photorésist de pointe conçu pour les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Ce système joue un rôle critique dans la création de circuits intégrés et de micropuces en transférant des motifs d'un photomasque sur une plaquette de silicium à travers une série d'étapes de lithographie. TEL ACT 8 est spécialement conçu pour assurer une grande précision, efficacité et cohérence dans le revêtement photorésist et les processus de développement. L'une des caractéristiques clés de TOKYO ELECTRON ACT 8 OR ACT 12 est son architecture de piste avancée, qui comprend plusieurs modules pour différentes étapes de processus telles que le revêtement, la cuisson, l'exposition et le développement. Cette conception modulaire permet une intégration transparente des différentes étapes du processus de lithographie et facilite le traitement rapide des plaquettes avec un temps d'arrêt minimal. L'unité est équipée de systèmes de manutention robotique pour automatiser le processus de chargement et de déchargement des plaquettes, améliorant ainsi son efficacité globale et son débit. Le module Coater de TOKYO ELECTRON ACT 8 est chargé de distribuer une mince couche de matériau photorésist sur la surface de la plaquette de silicium. Cette étape est cruciale pour la création d'une couche photorésistante uniforme et sans défaut qui servira de base aux étapes subséquentes de traitement. La machine utilise des techniques avancées de revêtement telles que le spin ou le spray pour obtenir une épaisseur de film très uniforme sur la surface de la plaquette. Après dépôt de la résine photosensible, la plaquette est transférée dans le module Baking pour le procédé de cuisson post-couche. Cette étape consiste à chauffer la plaquette pour éliminer les résidus de solvant éventuels et assurer une bonne adhérence du matériau photorésist sur la surface de la plaquette. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 OR ACT 12 est équipé de systèmes de régulation de température précis pour obtenir des conditions de cuisson optimales pour différents types de matériaux photorésistants. Ensuite, la plaquette est déplacée vers le module Exposition où les motifs souhaités sont transférés sur la couche de résine photosensible à l'aide d'un photomasque et d'un outil d'exposition. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 supporte divers types de techniques de lithographie telles que la proximité, le contact et la lithographie de projection, selon les exigences spécifiques du procédé de fabrication des semi-conducteurs. L'atout offre des capacités d'imagerie haute résolution pour atteindre des caractéristiques de motif de sous-micron avec une précision et une répétabilité exceptionnelles. Après l'étape d'exposition, la plaquette est transportée au module Développeur pour le processus de développement final. Dans cette étape, le matériau photorésistant exposé est sélectivement retiré de la surface de la plaquette à l'aide d'une solution de révélateur chimique, révélant les structures structurées sous-jacentes. Clean Track ACT 8 est conçu pour maintenir un contrôle strict sur les paramètres de développement tels que la température, le temps et l'agitation afin d'assurer un transfert de motif précis et des défauts minimaux. Dans l'ensemble, ACT 8 OR ACT 12 est un modèle de photorésist de pointe qui offre une précision, une productivité et une fiabilité inégalées pour les applications de fabrication de semi-conducteurs. Ses fonctionnalités et capacités avancées en font un outil indispensable pour produire des circuits intégrés avancés et des micropuces avec de hautes performances et fonctionnalités.