Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9078027 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
ID: 9078027
Style Vintage: 1999
(2) Coater / (2) Developer System, 8" Inline Single block Orientation Left to Right Mainframe Wafer Transfer Chemical cabinet T&H Thermo Controller AC Controller (4) CHP, Low Hot plate (8) HHP, Hot Plates (3) CPL, Chilled Plate (1) WEE, (Wafer Edge Exposure) IFCSB(R) 1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance conçu pour permettre des procédés lithographiques propres, efficaces et fiables dans la fabrication de semi-conducteurs. Le système réalise des fonctionnalités de bande de photorésist et est utilisé pour retirer les photorésists de la surface de la plaquette après une exposition lithographique. L'unité fournit également un monitorng de contamination de surface en ligne ainsi qu'un nettoyage de surface des mandrins lithographiques. La machine TEL Clean Track ACT 8 exploite la technologie actinique de pointe pour améliorer l'uniformité de l'épaisseur du film de surface, la vitesse du processus et la propreté de la surface des plaquettes. Il intègre un scanner laser excimère 450W Xe pour fournir un traitement ultraviolet profond (DUV) à haut débit pour les processus de gravure humide tels que la gravure de trous profonds. L'outil est conçu pour permettre une moindre défectivité avec une grande précision de l'efficacité des bandes et une meilleure stabilité du procédé. Il dispose d'un injecteur chimique amélioré pour le contrôle précis des dopants pour le traitement de résines nanostructurées, ainsi que d'une meilleure précision d'entraînement pour les processus de gravure à l'échelle nanométrique. De plus, l'actif est livré avec un microscope haute résolution pour la segmentation automatisée des photorésistances et l'inspection améliorée des défauts. Le modèle TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est équipé d'une source d'émission thermique faible pour réduire les excursions de température des plaquettes lors des processus de gravure profonde, et d'une configuration améliorée des électrodes de groupe pour améliorer l'uniformité de la gravure de résiste et l'épaisseur du film de surface. Il dispose également d'un système automatisé de gestion et de surveillance des salles blanches afin d'améliorer la sécurité, la fiabilité et l'efficacité. Les utilisateurs de l'unité Clean Track ACT 8 bénéficient de temps de cycle courts et d'une stabilité et d'une fiabilité accrues, ce qui en fait un choix idéal pour des procédés de fabrication de semi-conducteurs efficaces et précis. Il offre des coûts de fonctionnement réduits et un meilleur débit par rapport aux autres solutions disponibles sur le marché. De plus, son logiciel facile à utiliser permet un étalonnage automatisé et cohérent des processus de lithographie.
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