Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9165438 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance utilisé dans la fabrication de circuits intégrés. Le système se compose d'une source laser multi-chromatique spécialisée, d'un masque optique et d'un empilement de couches de film photorésist. La source laser fournit un flux d'énergie radiale très précis et localisé, permettant d'exposer la résine photosensible à travers le masque optique. L'empilement de résine photosensible utilisé dans l'unité est composé d'au moins quatre couches. La première couche est une couche de masquage qui sert de barrière physique pour protéger les couches sous-jacentes contre l'exposition au faisceau laser. La deuxième couche est une couche photosensible, qui est composée de photorésist ou de produits chimiques aux propriétés photosensibles. Cette couche est spécifiquement conçue pour ne permettre la gravure que lorsqu'elle est exposée à la lumière. La troisième couche est un développeur qui aide au processus d'élimination des parties indésirables de la couche photosensible. La couche finale est une couche de passivation, qui empêche toute exposition indésirable de la région photographiée. L'avantage principal de TEL Clean Track ACT 8 est sa haute résolution et sa capacité d'imagerie répétable, qui est due au flux d'énergie focalisé de la source laser à mouvement ultra fin. La source laser a une taille de 100-400 nanomètres qui permet une imagerie de haute précision et augmente la précision de fabrication. En outre, les couches de photorésist sont formulées avec une résolution améliorée et par le contrôle, éliminant les photographies déformées inhérentes observées avec les procédés traditionnels de photorésist. L'efficacité de la machine est encore améliorée par sa fonction de traitement multicouche. Cela lui permet d'effectuer plusieurs étapes du processus de gravure consécutives avec une seule exposition ; les couches de photorésist sont conçues pour être suffisamment épaisses pour permettre un niveau approprié de photo-exposition. Les multiples couches permettent également à l'outil d'éliminer simultanément des parties indésirables de la couche de masquage et de la couche photosensible. Le haut niveau d'intégration des couches de photorésist avec le faisceau laser focalisé permet également l'ablation de la lumière, procédé qui permet l'intégration structurelle du circuit avec le substrat sous-jacent. Ce procédé permet de pré-polir le substrat avec un haut degré de contrôle, ce qui élimine le besoin de polissage supplémentaire après gravure. Dans l'ensemble, l'actif photorésist TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 offre un moyen extrêmement précis et efficace de fabriquer des circuits intégrés avec des tolérances serrées, permettant la conception et la fabrication de circuits de haute précision. Les couches de photorésist sont formulées avec le bon équilibre de la résolution et à travers le contrôle et le flux laser permet un traitement en étape entière avec une seule exposition. En outre, l'ablation légère rend le processus plus efficace et rentable, tout en fournissant un niveau élevé de précision.