Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9165439 à vendre en France
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ID: 9165439
Taille de la plaquette: 8"
(4) Coater / (4) Developer system, 8"
Double block
DUV
IFB
Right to left wafer flow
(4) SUCs
SMIF Interface for ASML PAS 5500.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance performant qui permet une lithographie précise des structures complexes et des processus de gravure sélectifs. Il est conçu pour réduire la présence de défauts dans le processus photorésist, assurant un rendement élevé et des surfaces sans défaut. TEL Clean Track ACT 8 utilise un microscope électronique à balayage (SEM) pour créer un motif ultra-fini sur une plaquette utilisant la numérisation et l'imagerie haute résolution. Le système est compatible avec une variété de solutions photorésistantes, y compris les types standard positifs et négatifs, ainsi que de nouveaux matériaux plus robustes. La combinaison d'une meilleure résolution photorésist avec des procédés de fabrication de lithographie précis aboutit à un produit très précis. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 intègre également un certain nombre de caractéristiques spécialisées conçues pour assurer des produits de haute qualité avec une excellente uniformité et un risque minimal de défauts. Cela comprend un support de plaquette chauffé spécialisé qui chauffe régulièrement la plaquette avec une unité de distribution thermique avancée. La machine comprend également un procédé de dégazage sous vide en trois étapes pour retirer les poches d'air de la résine photosensible. En outre, Clean Track ACT 8 est équipé de techniques d'inspection automatisées qui balayent une plaquette pour détecter les défauts. Cette fonctionnalité permet aux utilisateurs d'identifier rapidement toutes les zones potentiellement problématiques, permettant des mesures correctives rapides. Les zones exemptes de défauts sont ensuite inspectées optiquement pour s'assurer de la précision et de la qualité requises. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un puissant outil de photorésistance qui permet la lithographie précise de conceptions complexes avec des taux de défauts minimisés. Il est équipé de plusieurs fonctionnalités qui permettent aux utilisateurs d'identifier rapidement et avec précision tout problème potentiel, tout en assurant un haut degré de précision et d'uniformité. Le résultat est une surface sans défaut avec une excellente consistance, permettant un processus de fabrication efficace et fiable.
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