Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9182601 à vendre en France
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Vendu
ID: 9182601
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2004
(3) Coaters / (3) Developers, 8"
General system configuration:
Left to right
Carrier type: Notch type, (25) Slots
System power rating: AC 208V, 3-Phase for system, 173A (Max)
Loading configuration:
(4) Loaders
Uni-cassette
Software version: 3.04.130
(3) Main controllers
Main system details:
Main frame with system controller
Carrier station
Type: Normal cassette type
Cassette: (25) Slots
Coater unit details (2-1, 2-2 module):
(8) Dispense nozzles
with temperature controlled lines for etch unit
(16) RRC Pumps
PR Suck-back valve: (16) AMC Suck-back valves
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system: 3-Liter 2-tank buffer tank system
Programmable side rinse
PR Supply (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8): (8)Bottles (1-Bottle / 2-Nozzle)
Solvent Supply
CCSS Supply
E.B.R Flow system: CCD Type
Drain type: Direct drain system (Including a pump)
TCT Unit details (3-2 Module):
(3) Dispense nozzles with temperature controlled
Resist 1, 2 RRC pump (F-T201-1)
Resist 3 RDS pump (R GEN tm-01)
PR Suck-back valve: (3) AMC Suck-back valves
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system: 3-Liter 2-tank buffer tank system
Programmable side rinse
PR Supply (1, 2, 3): (3) Bottles (1-Bottle/1-Nozzle)
Solvent supply: CCSS Supply
E.B.R Flow system: CCD Type
Drain type: Direct drain system (Including a pump)
Developer unit details (3-1, 3-2, 3-4 Module):
(1) LD Nozzle for each unit
(3) Dispense nozzles with temperature controlled
(1) Stream nozzle for DI rinse
2-Point for back side rinse on each unit
Developer system: (3) 3-Liter 2-tank buffer tank system
Developer supply: CCSS Supply
Developer temperature control system
Drain: Direct drain
I/F Wafer stage type: NIKON Type (S206)
(2) Adhesion units details:
HMDS Tank with float sensor in system
HMDS Supply: Local canister supply
(3) Precision hot plate stations (PHP)
(6) Precision chilling hot plate stations (PCH)
(2) Cup washer holders (CWH)
(4) High chill plate stations (HCP)
(1) Chill plate station (CPL)
(2) High temp hot plate stations (HHP)
(5) Low temp hot plate stations (LHP)
(2) Transition stages (TRS)
(1) Transition chill plate (TCP)
Chemical cabinet #1: PR Bottle & 2-1, 2-2 COT pump
HMDS Buffer tank assembly
Solvent buffer tank
Solvent filter assembly
Developer buffer tank & developer / DI filter assembly
Chemical cabinet #2: HMDS Canister tank
Temperature & humidity controller:
Type: SHINWA ESA-8Series (TEL OEM)
Temperature control unit (TCU):
Type: TEL OEM
AC Power box:
AC 200/220V
Full load current: 173A
System configuration:
(1) UNC: Uni-cassette stage
(1) TCT: TARC Process station
(2) ADH: Adhesion process stations
(3) PHP: Precision hot plate stations
(6) PCH: Precision chilling hot plate stations
(2) CWH: Cup washer holders
(2) SHU: Shuttles
(2) COT: Coat process stations
(3) DEV: Develop process stations
(4) HCP: High speed chill plate stations
(1)CPL: Chill plate station
(2) HHP: High temperature hot plate stations
(5) LHP: Low temperature hot plate stations
(2) TRS: Transition stages
(1) TCP: Transition chill plate
Other system details:
In-Line
CSB, PRB1, PRB2, IFB
Power box, T&H Controller 1
Chemical box 1, 2
Thermo-controller 1
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance spécialement conçu pour les lignes de production de panneaux LCD. Les systèmes photorésistants utilisent la lumière ultraviolette (UV) pour exposer le matériau photorésistant revêtu à la surface d'un substrat, généralement du verre. Si le substrat est exposé à une lumière de longueur d'onde appropriée, la résistance se décompose, laissant un motif de zones exposées et non exposées. Cette technologie photorésist est utilisée dans les lignes de production de panneaux LCD pour créer un motif ultra-fin d'électrodes sur le panneau LCD. TEL Clean Track ACT 8 fournit une configuration fiable pour les lignes de production LCD. Il s'agit d'un système modulaire composé d'une unité d'exposition, d'une unité de focalisation et d'alignement, d'un module d'étage de substrat, d'une unité de mesure et de contrôle et d'une machine de contrôle de support. L'unité d'exposition utilise une puissante source de lumière UV-LED et une variété d'optiques et de galvanomètres pour fournir une stabilité d'exposition supérieure avec un alignement très précis et un contrôle des aberrations. L'outil de focalisation et d'alignement permet un positionnement précis et reproductible du motif, permettant une formation précise et précise du motif de l'électrode. Le module de l'étage de substrat fournit une vitesse de mouvement et une précision précises, permettant une formation de motif extrêmement précise. L'unité de mesure et de contrôle règle et contrôle automatiquement les niveaux d'exposition de chaque unité d'exposition. L'actif de contrôle de support synchronise les composants matériels et fournit une interface conviviale qui permet aux utilisateurs de surveiller, d'ajuster et d'analyser les niveaux d'exposition de chaque unité d'exposition sur la ligne de production. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est conçu pour maximiser la productivité tout en offrant une définition et une précision de motif supérieures. Il offre des motifs haute résolution avec une largeur de ligne minimale de 0,1 microns et une uniformité ± 2 %. Il offre également des temps d'exposition rapides pour répondre aux exigences élevées des lignes de production LCD. Avec une uniformité d'exposition supérieure et une grande précision, Clean Track ACT 8 est un excellent choix pour les lignes de production de panneaux LCD.
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