Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9190707 à vendre en France

TEL (TOKYO ELECTRON) TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour la précision, la haute précision, la nanométrie avec des performances supérieures aux techniques lithographiques traditionnelles. Le système photorésist fournit une plate-forme de conception et de fonctionnement simplifiée, qui assure les résultats les plus cohérents dans le plus court laps de temps. L'unité fonctionne en exposant d'abord le matériau du substrat à la lumière (à l'aide d'une machine d'exposition) puis en appliquant une résine photosensible sur le substrat. La résine photosensible agit comme une couche de masquage, bloquant une partie de la lumière d'atteindre le matériau du substrat dans les zones sur lesquelles le motif est souhaité. Le motif est obtenu en contrôlant le temps d'exposition, l'intensité et l'angle de la source lumineuse, ainsi que la composition de la résine photosensible. TEL Clean Track ACT 8 est conçu avec un ensemble robuste de caractéristiques pour le fonctionnement, y compris un outil auto-focus pour assurer des exigences de lithographie précises à chaque fois, une chambre fermée avec une porte pneumatique, des réglages programmables et une foule d'autres fonctionnalités. Les caractéristiques avancées de cet atout permettent de modeler dans une gamme de couches/couches, du micron au sous-micron, avec une taille de caractéristique minimale de 10nm réalisable. Ce modèle est idéal pour la fabrication de puces, cibler les dispositifs semi-conducteurs, les systèmes microélectromécaniques (MEM), la technologie d'affichage, etc. L'équipement photorésist offre deux avantages principaux. La première est une réduction du coût car seul un seul système photorésist doit être utilisé au lieu de plusieurs modules de lithographie. Le second est un débit amélioré car les motifs peuvent être tracés rapidement sans aucune interférence manuelle de l'opérateur. En outre, l'unité peut être optimisée pour les besoins spécifiques d'application afin d'obtenir des résultats plus précis dans un délai plus court. Parmi les caractéristiques réglables, on peut citer la composition chimique de la résine photosensible, l'épaisseur de couche du matériau du substrat et le coefficient de rétraction du motif. La machine photorésistante TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 offre une plate-forme idéale pour le développement et la création de dispositifs électroniques à l'échelle nanométrique. L'outil permet d'obtenir de meilleurs résultats avec un délai de rotation plus court, ce qui permet à la fois de réaliser des économies et d'améliorer les processus technologiques. C'est la solution idéale pour les clients à la recherche d'une plate-forme fiable et rentable pour développer des applications avancées de haute technologie.