Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9191941 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour offrir des performances et un débit de salle blanche supérieurs. Le système utilise une unité de voie automatique qui combine un processus de nettoyage actif et le stockage et le transport sans produits chimiques de plaquettes de résines photosensibles. Une machine d'alimentation à résistance optimisée assure en outre une productivité élevée, une grande uniformité et une contamination minimale des plaquettes. TEL Clean Track ACT 8 comprend un outil de pulvérisation conçu pour résister au dépôt de particules. L'actif est équipé de plusieurs fonctionnalités pour assurer une performance optimale. Un procédé de revêtement spécialisé est mis en oeuvre pour assurer une adhérence supérieure de la résine photosensible à la surface de la plaquette, garantissant une couverture totale de toute la surface et une épaisseur uniforme du film. Un modèle automatisé reconnaît la taille de la plaquette et identifie le type de résistance spécifié. L'équipement modulaire a également une capacité flexible qui peut être ajustée au vol en fonction des exigences actuelles et de la taille des plaquettes. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8, le système de résistance propriétaire offre plusieurs avantages. Le liquide de nettoyage est une solution aqueuse qui minimise l'introduction de substances organiques et qui est produite à l'intérieur de l'unité à la demande. Cela garantit une protection supplémentaire contre la contamination. Un débit préprogrammé de consommation de liquide optimise la machine pour le traitement à grande vitesse. L'outil d'alimentation en résine reste hermétiquement fermé pour protéger la résistance exposée de toute contamination en tout temps. En outre, Clean Track ACT 8 est équipé de plusieurs fonctions de sécurité avancées. Un atout anti-pulvérisation à basse pression intégré réduit le risque d'exposition aux particules en suspension dans l'air, protégeant ainsi la plaque de substrat d'une contamination possible. Le modèle est également conçu pour des performances supérieures en salle blanche et dispose d'une plage de fonctionnement plus étroite, de 0,2 à 0,6 bar. La conception unique de TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 permet d'améliorer le débit et la contamination minimale des plaquettes, en obtenant des rendements élevés pour une variété de substrats dont le silicium, la céramique et le quartz. Des capacités flexibles et des processus automatisés font de TEL Clean Track ACT 8 une solution rentable pour les opérations en salle blanche qui exigent des performances élevées de leur équipement photorésist.