Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198616 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance qui utilise un système d'exposition sans masque pour produire des motifs lithographiques de haute qualité. Il utilise un faisceau multicore de lumière laser pour irradier une couche photorésiste positive ou négative sur une surface de plaquette. La lumière laser est modulée par des obturateurs à cristaux liquides, permettant à l'optoélectronique structurante de former avec précision le motif désiré. L'unité comprend également un étage de substrat en quartz qui peut être déplacé automatiquement sans intervention de l'utilisateur pour ajuster la zone d'exposition lors de l'ébauche. La source laser a une faible consommation d'énergie et est sans ozone. La machine est conçue pour produire des motifs à haute résolution avec un alignement précis et la manipulation de différents photorésistants. Il permet un fonctionnement en salle blanche avec une faible contamination par les particules et une production d'électricité statique minimale. L'outil est très efficace et rentable, élimine le besoin de fabrication coûteuse de masques, et réduit les étapes de gravure et de nettoyage à sec. L'actif permet également aux photorésistes d'être exposés du négatif au positif pour créer des motifs multicouches sans étapes de processus supplémentaires. Pour chaque photorésist, le modèle est également conçu pour optimiser les conditions de processus et les réglages de processus qui peuvent être ajustés pour diverses exigences de processus. L'équipement peut stocker jusqu'à 8 recettes dans sa mémoire et peut ajuster le temps d'exposition et la puissance laser en fonction des paramètres du processus. En outre, le système comprend également un moniteur en temps réel afin que les utilisateurs puissent facilement s'adapter à l'évolution des conditions environnementales et suivre l'évolution de l'exposition. Cette unité photorésist offre une excellente résolution, l'alignement et la précision des photorésistances. La faible consommation d'énergie et la source laser sans ozone la rendent adaptée aux applications en salle blanche, tandis que ses caractéristiques de rentabilité et de gain de temps en font un outil précieux pour les chercheurs et les fabricants. De plus, le moniteur intégré et le stockage des recettes de la machine en font une solution extrêmement efficace et fiable pour la fabrication de masques photographiques lithographiques.