Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198617 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
ID: 9198617
Taille de la plaquette: 8"
(3) Coater / (4) Developer system, 8" Left to right wafer flow (4) UNCs DUV Open cassette Interface for CANON ES3 Dual block.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement de photorésistance conçu pour les processus de dépôt qui nécessitent une précision, une résolution et une propreté accrues. Il est conçu avec des fonctionnalités avancées et des technologies pour les processus de lithographie et est optimisé pour les processus où des températures élevées et/ou la physique de haute résistance sont impliqués. Il est capable de fournir une meilleure contrôlabilité et précision pour les caractéristiques de dépôt avec un contact physique minimal. TEL Clean Track ACT 8 utilise une technologie de photorésistance avancée pour permettre un dépôt précis de la couche d'atome lors de processus pour des cycles spécifiques. Cette technologie permet un contrôle précis des caractéristiques avec un contact physique minimal, ce qui permet une production efficace du processus de lithographie. Le système comprend des technologies de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD), de cendrage en plusieurs étapes (MSA) et de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD) pour permettre un dépôt précis de la couche d'atome. L'unité comprend également une technologie de physique haute résistance pour les processus de lithographie qui nécessitent des températures élevées. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est conçu avec une structure de chambre unique et des bras de robot intégrés pour assurer des résultats optimaux avec un contact physique minimal. Cette technologie permet également des masques précis avec une résolution plus élevée que les procédés traditionnels de photolithographie. Les bras robotisés intégrés sont conçus pour une plus grande flexibilité et un contrôle précis des processus de dépôt. Clean Track ACT 8 est capable de manipuler une variété de substrats, y compris des matériaux communs en acier inoxydable, en aluminium et en quartz. La machine est également capable d'enduire et de plaquer des films minces et épais à basse température. De plus, l'outil est capable de fonctionner par lots et en continu. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 produit des résultats de dépôt de haute qualité avec un minimum de déchets et de contact physique. Avec ses caractéristiques et technologies avancées, il est capable de produire des masques précis avec une résolution plus élevée que les procédés traditionnels de photolithographie. C'est un atout idéal pour les processus de dépôt qui nécessitent une précision, une résolution et une propreté accrues.
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