Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198618 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
ID: 9198618
Taille de la plaquette: 8"
(2) Coater / (2) Developer system, 8" IFB DUV Single block Right to left wafer flow (4) UNCs Open cassette Interface for ASML PAS 5500.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 est un équipement photorésist de haute précision qui utilise une technologie de pointe pour fournir un large éventail d'avantages pour la production de dispositifs microélectroniques haut de gamme. Ce système offre un meilleur contrôle des processus et une meilleure précision qui se traduit par une productivité accrue et une meilleure qualité. Il est typiquement utilisé pour la réalisation de transistors à couches minces et de circuits intégrés. L'unité TEL Clean Track ACT 8 se compose de deux composants clés : une source brevetée d'exposition au faisceau d'électrons et un mécanisme d'exposition multi-axes précis contrôlé par logiciel. La source d'exposition au faisceau d'électrons utilise un canon à électrons pour produire un motif masque-image à haute résolution qui est transféré dans un matériau photorésistant. La source d'exposition brevetée est conçue pour transférer avec précision l'image au matériau photorésistant en minimisant la perte d'énergie d'exposition due au milieu d'imagerie. Il en résulte une meilleure résolution d'image et un enregistrement précis de l'image. Le deuxième composant de la machine est le mécanisme d'exposition multi-axes précis, contrôlé par un logiciel propriétaire, qui est chargé de fournir le motif de masque à image avec une précision de pointage extrêmement précise. Ce composant est équipé d'une remorque en titane qui permet un contrôle linéaire du mouvement sur trois axes avec une précision inférieure à 0,5 micron. Cela permet à la photo-alignement de se produire avec une précision rigoureuse, résultant en une image haute résolution avec un excellent enregistrement. En outre, l'outil TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 peut être équipé d'un certain nombre de capacités supplémentaires différentes telles qu'un module de pré-cuisson de plaquettes, un actif de compensation de température, un modèle d'obturateur de haute précision et plus encore. Cela permet de personnaliser l'équipement pour répondre à des exigences de production spécifiques. Clean Track ACT 8 photoresist system dispose d'une technologie de pointe qui fournit un niveau exceptionnellement élevé de précision et de vitesse dans la production de dispositifs microélectroniques. Cette unité permet des temps de production plus rapides, des images de meilleure qualité et une productivité accrue dans la production de transistors à couches minces et de circuits intégrés. C'est une machine idéale pour la fabrication de dispositifs microélectroniques extrêmement précis et finement détaillés.
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