Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9219615 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 est un équipement photorésistant « Deep UV » conçu pour la fabrication de circuits intégrés. Les photorésists sont des matériaux sensibles à la lumière qui sont utilisés dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs pour créer des caractéristiques sur différentes couches. TEL ACT 8 est conçu pour fournir une sensibilité et une résolution très élevées par rapport à d'autres photorésistants sur le marché. TOKYO ELECTRON ACT 8 est composé de deux composants distincts : un photorésist négatif et un écran de diffusion acide. La photorésist négative est appliquée sur le substrat par des techniques de pulvérisation ou d'enrobage par spin. Lorsqu'il est exposé à une lumière ultraviolette d'intensité suffisante, il polymérise, devenant insoluble et non absorbant. Cela permet de créer des lignes fines et d'autres structures. L'écran de diffusion acide, qui est appliqué après la résine photosensible, est utilisé pour contrôler la taille des caractéristiques formées. Il réagit avec des composants sélectionnés de la photorésist, créant une couche de bulles microscopiques qui agissent comme un masque de gravure. Cette couche présente une vitesse de gravure plus élevée que la photorésist environnante, ce qui permet de former des caractéristiques plus petites. Le durcissement de la résine photosensible et le criblage de diffusion acide garantissent que les caractéristiques sont stables et exemptes de contamination. Ces caractéristiques peuvent ensuite être utilisées pour la lithographie ultérieure, permettant la formation de circuits supplémentaires. La machine ACT 8 offre des avantages en termes de vitesse d'exposition, de sensibilité et de résolution. En raison de sa grande sensibilité, des temps d'exposition plus courts peuvent être utilisés, ce qui se traduit par un débit de production plus élevé. Il a également la capacité de produire des lignes jusqu'à des résolutions de 0,2 microns et des espaces jusqu'à 0,1 microns, ce qui le rend adapté aux nouveaux procédés de fabrication IC. L'outil TEL ACT 8 est un excellent choix pour ceux qui recherchent une solution photorésist hautement fiable et haute résolution pour leurs besoins de fabrication de circuits intégrés. Sa vitesse d'exposition rapide, sa sensibilité et sa précision lui permettent de résister aux conditions de production les plus exigeantes.